纳米级三维测量：Sensofar白光干涉仪技术解析

　　在高端制造、半导体、精密光学、微纳加工、材料科学等对表面精度要求极高的领域，传统检测设备已难以满足纳米级三维形貌测量需求。Sensofar白光干涉仪凭借非接触、高精度、快速度、三维成像等核心优势，成为超精密表面表征的设备，为微纳尺度测量提供完整解决方案。
 

　　Sensofar白光干涉仪基于白光垂直扫描干涉原理，利用宽光谱白光在被测表面形成干涉条纹，通过高精度位移台与高速相机采集干涉信号，精准重构样品三维形貌。仪器可实现亚纳米级分辨率，对表面粗糙度、平面度、台阶高度、微结构形貌、薄膜厚度等实现无损伤、高精度定量测量，不破坏样品，适合 fragile、柔软、高反光或超光滑表面。
 

　　设备支持多物镜智能切换，从低倍大视野到高倍超精密测量一键切换，兼顾检测效率与精度。搭配高性能图像处理算法，可快速去除噪声、优化形貌、自动提取关键参数，数据稳定可靠。同时具备共聚焦、干涉、景深扩展成像等多模态测量能力，一台设备满足多样品、多场景检测需求，大幅提升实验室与产线检测效率。
 

　　在半导体与微电子领域，可精准测量晶圆、光刻结构、MEMS 器件的微观形貌与尺寸；在精密光学行业，用于光学镜片、透镜、镀膜表面质量检测；在汽车、航空、刀具等高端制造中，对精密零部件表面粗糙度与微观结构进行严格质控。
 

　　Sensofar白光干涉仪以超高精度、非接触、快速度、真三维、多场景适配等核心技术优势，成为纳米级超精密测量的选择设备，为高端研发与精密制造提供可靠计量支撑。