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奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料

产品简介

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料金相显微系统通过反射明暗场双模式照明、半复消色差物镜组及高分辨率数字成像的协同设计,满足了对材料微观结构高精度、高通量分析的需求。尤其在图像融合(EDF)与大视野拼接技术上表现出色,为科研与工业质检提供了可靠的技术平台。未来可进一步探索偏振、荧光模块的集成潜力。

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更新时间:2025-07-28
厂商性质:代理商
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奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料

引言

在材料科学、金属学及半导体工业等领域,显微镜作为关键的分析工具,其性能直接影响到研究的深度和广度。奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜,作为一款研究级正置式金相显微镜,凭借其光学性能和灵活的配置选项,成为了众多科研和工业应用的。本文将详细解析BX53M显微镜的技术参数,探讨其在明暗场观察、物镜选择、成像系统等方面的技术特点。

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料

一、主体结构与光学系统

1.1 反射镜体设计

BX53M显微镜的反射镜体(型号:BX53MRF-S)采用了*的光学设计,专为反射光观察优化。其坚固的结构确保了长时间使用的稳定性,同时提供了出色的光学性能。反射镜体内部的光路设计,使得光线能够高效、准确地到达样品表面,并反射回观察系统,从而实现高质量的成像。

1.2 光源系统

该显微镜配备了LED反射光源(型号:BX3M-LEDR),这种光源具有长寿命、低能耗和稳定的光输出特点。LED光源的色温一致性和亮度可调性,为样品提供了均匀且可控制的照明条件,这对于明暗场观察尤为重要。在明场观察模式下,光线直接照射样品,形成明亮的背景;而在暗场观察模式下,通过特殊的光路设计,使得只有散射光进入物镜,形成暗背景上的亮样品像,从而增强了样品的对比度。

1.3 反射光路与物镜转盘

BX53M显微镜的反射光路(型号:BX3M-RLA-S)支持明场(BF)和暗场(DF)观察模式,通过简单的操作即可切换。高性能5孔手动物镜转盘(型号:U-D5BDRE)则提供了快速、准确的物镜更换能力,支持多种倍率的物镜安装,包括平场半复消色差明暗场物镜系列,满足了不同观察需求。

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料

二、物镜系列与性能

2.1 平场半复消色差明暗场物镜

BX53M显微镜配置了平场半复消色差明暗场物镜系列,包括5X、10X、20X和50X四种倍率。这些物镜不仅具有高分辨率和良好的色差校正能力,还特别设计了适合明暗场观察的光学结构。

  • 5X物镜(MPLFLN5XBD):数值孔径(NA)为0.15,工作距离(WD)为12mm,适用于大范围、低倍率的观察,能够提供清晰的样品概貌。

  • 10X物镜(MPLFLN10XBD):NA为0.3,WD为6.5mm,提供了中等倍率的观察,适合对样品细节进行初步分析。

  • 20X物镜(MPLFLN20XBD):NA为0.45,WD为3mm,进一步提高了分辨率,适用于对样品表面形貌和微观结构的详细观察。

  • 50X物镜(MPLFLN50XBD):NA高达0.8,WD为1mm,提供了分辨率,适用于对样品微观缺陷和精细结构的超高倍率观察。

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2.2 物镜性能特点

平场半复消色差设计使得物镜在整个视场内都能提供均匀的成像质量,减少了像差对观察结果的影响。同时,这些物镜还具有良好的景深控制能力,使得在不同焦平面上都能获得清晰的图像。此外,物镜的镀膜技术也进一步提高了光线的透过率和抗反射能力,从而提升了成像的亮度和对比度。

三、成像系统与附件

3.1 观察筒与目镜

BX53M显微镜配备了三目观察筒(型号:U-TR30-2),支持双眼观察和数码摄像同时进行。超宽视野目镜(WHN10X-H,10X)和标准目镜(WHN10X,10X)提供了舒适的观察体验和清晰的成像效果。观察筒和目镜的组合设计,使得用户可以根据需要调整观察角度和焦距,从而获得最佳的观察效果。

3.2 数码摄像与影像测量软件

显微镜配置了2000万像素的数码摄像头(20MP USB3.0),采用工业级CMOS传感器,具有高分辨率、低噪声和快速数据传输能力。摄像头通过C型接口(U-TV1XC)与显微镜连接,支持实时图像采集和视频录制。配套的影像测量软件(Microsoftware)提供了丰富的图像处理和分析功能,包括长度、周长、面积等基本测量,以及景深合成和图像拼接等高级功能。这些功能使得用户可以对样品进行精确的定量分析,提高了研究效率。

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料

3.3 载物台与操作便利性

BX53M显微镜的载物台(U-SVRM)采用了机械驱动设计,具有右手驱动控制功能,使得样品的位置调整更加精确和方便。载物台板(U-MSSP)提供了稳定的样品支撑,减少了观察过程中的振动和干扰。此外,载物台还支持多种样品夹具和载玻片的安装,满足了不同样品的观察需求。

四、应用领域与优势

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜凭借其光学性能和灵活的配置选项,在材料科学、金属学、半导体工业等领域具有广泛的应用前景。其明暗场观察模式使得用户可以根据样品的特性选择合适的观察方式,从而获得最佳的成像效果。高性能的物镜系列和数码成像系统则提供了精确的定量分析和丰富的图像处理功能,满足了科研和工业应用中的多样化需求。

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜技术资料

结论

综上所述,奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜在光学设计、物镜性能、成像系统和操作便利性等方面均表现出色。其*的技术参数和灵活的配置选项使得该显微镜成为科研和工业应用中的理想选择。未来,随着材料科学和半导体工业的不断发展,BX53M显微镜将继续发挥其重要作用,推动相关领域的研究和技术进步。

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