奥林巴斯 OLS5100：材料科研共聚焦利器
在材料科学、纳米技术等科研领域，对微观形貌的三维高精度分析是推动研究进展的重要支撑。奥林巴斯激光共聚焦显微镜 OLS5100，凭借出色的三维成像能力与丰富的分析功能，成为科研人员开展微观研究的得力工具。
产品细节
OLS5100 采用落地式稳定结构，机身尺寸约 800mm×600mm×1200mm，重量 120kg，底部设有防震脚垫，能有效减少外界振动对成像的影响。操作界面为 15 英寸触控屏，搭配鼠标、键盘接口，支持多用户账户管理，可保存不同研究人员的操作参数与分析模板。样品台为电动平移结构，行程 150mm×150mm，承重 5kg，支持 X/Y/Z 轴自动对焦与扫描，定位精度达 0.1μm，可实现样品的全自动三维扫描。设备集成激光共聚焦模块与光学成像模块，可切换 2D 成像与 3D 扫描模式；侧面预留拉曼光谱仪、原子力显微镜等扩展接口，满足多技术联用需求。此外，配备大型样品室，可容纳高度 100mm 的样品，适合观察块状材料、大型器件。
产品性能
OLS5100 采用 405nm 半导体激光光源，纵向分辨率达 10nm，横向分辨率达 100nm，能清晰捕捉纳米级表面起伏（如薄膜的岛状结构、金属表面的纳米划痕）。设备支持多种扫描模式：快速扫描（帧率 10 帧 / 秒）适合初步观察，精细扫描（分辨率 4096×4096 像素）适合高分辨率三维重构。三维分析功能丰富，可计算表面粗糙度（Ra、Rz）、体积、台阶高度、孔隙率等参数，数据可直接导出至 Origin、Matlab 等软件进行进一步分析。测量过程中数据重复性较好，相同条件下多次扫描的三维形貌偏差小于 5%，能为科研提供可靠数据支持。
用材讲究
核心光学部件选用高透光率石英玻璃，配合多层镀膜技术，减少激光能量损失与杂散光干扰，确保成像质量。样品台台面采用耐磨陶瓷材质，表面平整度误差小于 2μm，既抗腐蚀又耐高温（可配合加热样品台使用，最高温度 500℃）。内部机械传动部件采用精密滚珠丝杠与伺服电机，保障长期使用后的运动精度，减少部件磨损带来的扫描偏差。设备外壳采用冷轧钢板，表面经过防静电喷涂处理，能抵抗实验室常见化学试剂的腐蚀，同时减少静电对电子元件的影响。
参数详情
广泛用途
在纳米材料研发中，观察纳米颗粒的分散状态、纳米管的排列结构；在薄膜科学研究中，测量薄膜的厚度均匀性、表面粗糙度，分析沉积工艺对薄膜性能的影响；在生物材料研究中，观察细胞在支架表面的黏附形态、生物涂层的三维结构；在金属材料研究中，分析金属疲劳后的纳米级裂纹扩展、腐蚀产物的微观形貌。
使用说明
使用前，将设备放置在恒温恒湿的科研实验室中（温度波动＜±1℃/ 小时），安装在光学防震平台上，远离强磁场（如核磁共振仪）与强电场。打开设备电源，预热 30 分钟，同时启动激光校准程序，确保激光光路稳定。样品制备需符合共聚焦测量要求：导电性样品需清洁表面氧化层；绝缘样品（如聚合物、陶瓷）无需特殊处理，但需确保表面干燥；纳米级样品需固定在专用样品座上，避免扫描时移动。将样品放置在电动样品台上，关闭样品室门，通过触控屏设置扫描参数（如扫描范围、分辨率、扫描速度），选择 “3D 扫描" 模式。启动扫描后，系统自动完成对焦与数据采集，实时显示三维形貌重构过程。扫描完成后，利用配套软件进行数据分析（如计算表面粗糙度、提取台阶高度），并保存原始数据与分析报告。实验结束后，关闭激光光源，待设备冷却后关闭电源，清洁样品台与样品室。每周清洁光学镜头与激光出射口，每 3 个月请专业人员校准激光光路与扫描精度。
奥林巴斯 OLS5100：材料科研共聚焦利器
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