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OLS5100共聚焦显微镜科研与工业的观测利器

产品简介

OLS5100共聚焦显微镜科研与工业的观测利器
在科研与工业检测领域,对微观结构的精确观察和分析至关重要。奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100,以其独特的设计和强大的功能,为科研人员和工业检测人员提供了可靠的观测工具。

产品型号:
更新时间:2025-10-12
厂商性质:代理商
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解锁微观奥秘:OLS5100共聚焦显微镜

在科研与工业检测领域,对微观结构的精确观察和分析至关重要。奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100,以其独特的设计和强大的功能,为科研人员和工业检测人员提供了可靠的观测工具。

产品细节与性能

OLS5100的X-Y扫描仪是其一大亮点。它通过将采用电磁感应MEMS谐振扫描仪的X轴与采用Galvano扫描振镜的Y轴相结合,让X-Y扫描仪定位于相对物镜瞳镜共轭的位置,从而实现具有较低扫描轨迹失真和较小光学像差的X-Y扫描。这种设计使得扫描图像更加清晰、准确,为后续的数据分析提供了可靠的基础。

设备配备的两套光学系统(彩色成像光学系统和激光共焦光学系统)也十分出色。彩色成像光学系统使用白光LED光源和CMOS相机获取彩色信息,激光共焦光学系统采用405纳米激光二极管光源和高灵敏度光电倍增管获得共焦图像。浅焦深特性使其能够用于测量样品的表面不规则性,同时还能捕捉任意表面形状,快速获得可靠数据。

用材精良

为了确保设备的稳定性和耐用性,OLS5100在选材上十分讲究。机身外壳采用冷轧钢板,表面经过防静电喷涂处理,能抵抗实验室常见化学试剂的腐蚀,同时减少静电对电子元件的影响。内部光学部件采用高纯度光学玻璃,经过精密加工和镀膜处理,提高了光的透过率和成像质量。机械部件采用高强度合金材料,经过特殊处理,具有耐磨、耐腐蚀的特点,能够保证设备的长期稳定运行。

参数表与型号

参数项具体数值
激光器类型激光共聚焦显微镜OLS5100可观察纳米范围的台阶
扫描方式X轴采用电磁感应MEMS谐振扫描仪,Y轴采用Galvano扫描振镜
物镜深度可达25毫米的凹坑,配备多种倍率物镜可选
焦点位置估算可根据焦点位置(Z)和检测光强度(I)估算
图像采集速度提供四倍于上一代型号的采集速度
样品容纳尺寸长工作距离物镜和选配的扩展机架使得系统能够适用于最大为210mm的样本

OLS5100有多种型号可供选择,不同型号在功能和应用场景上略有差异,用户可根据自身需求进行挑选。

用途多样

在半导体制造领域,OLS5100可用于检测芯片表面的微观缺陷、测量薄膜的厚度和均匀性等;在电子元器件检测中,能够观察元器件的内部结构和表面形貌,分析其性能和质量;在材料科学研究方面,可对材料的微观组织、晶体结构等进行观察和分析,为材料的设计和改进提供依据。

使用说明

使用OLS5100时,首先将设备连接到稳定的电源和合适的计算机系统。打开设备电源开关,等待设备初始化完成。将样品放置在样品台上,根据样品的大小和形状调整样品台的位置和角度。通过计算机软件设置扫描参数,如扫描范围、分辨率、扫描速度等。点击“开始扫描"按钮,设备将自动进行扫描和图像采集。扫描完成后,使用软件对图像进行处理和分析,如测量、标注、三维重建等。最后,保存分析结果和数据,关闭设备和计算机。

解锁微观奥秘:OLS5100共聚焦显微镜






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