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PRODUCTS CNTEROLS5100共聚焦显微镜科研与工业的观测利器在科研与工业检测领域,对微观结构的精确观察和分析至关重要。奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100,以其独特的设计和强大的功能,为科研人员和工业检测人员提供了可靠的观测工具。
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解锁微观奥秘:OLS5100共聚焦显微镜
在科研与工业检测领域,对微观结构的精确观察和分析至关重要。奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100,以其独特的设计和强大的功能,为科研人员和工业检测人员提供了可靠的观测工具。
OLS5100的X-Y扫描仪是其一大亮点。它通过将采用电磁感应MEMS谐振扫描仪的X轴与采用Galvano扫描振镜的Y轴相结合,让X-Y扫描仪定位于相对物镜瞳镜共轭的位置,从而实现具有较低扫描轨迹失真和较小光学像差的X-Y扫描。这种设计使得扫描图像更加清晰、准确,为后续的数据分析提供了可靠的基础。
设备配备的两套光学系统(彩色成像光学系统和激光共焦光学系统)也十分出色。彩色成像光学系统使用白光LED光源和CMOS相机获取彩色信息,激光共焦光学系统采用405纳米激光二极管光源和高灵敏度光电倍增管获得共焦图像。浅焦深特性使其能够用于测量样品的表面不规则性,同时还能捕捉任意表面形状,快速获得可靠数据。
为了确保设备的稳定性和耐用性,OLS5100在选材上十分讲究。机身外壳采用冷轧钢板,表面经过防静电喷涂处理,能抵抗实验室常见化学试剂的腐蚀,同时减少静电对电子元件的影响。内部光学部件采用高纯度光学玻璃,经过精密加工和镀膜处理,提高了光的透过率和成像质量。机械部件采用高强度合金材料,经过特殊处理,具有耐磨、耐腐蚀的特点,能够保证设备的长期稳定运行。
参数项 | 具体数值 |
---|---|
激光器类型 | 激光共聚焦显微镜OLS5100可观察纳米范围的台阶 |
扫描方式 | X轴采用电磁感应MEMS谐振扫描仪,Y轴采用Galvano扫描振镜 |
物镜 | 深度可达25毫米的凹坑,配备多种倍率物镜可选 |
焦点位置估算 | 可根据焦点位置(Z)和检测光强度(I)估算 |
图像采集速度 | 提供四倍于上一代型号的采集速度 |
样品容纳尺寸 | 长工作距离物镜和选配的扩展机架使得系统能够适用于最大为210mm的样本 |
OLS5100有多种型号可供选择,不同型号在功能和应用场景上略有差异,用户可根据自身需求进行挑选。
在半导体制造领域,OLS5100可用于检测芯片表面的微观缺陷、测量薄膜的厚度和均匀性等;在电子元器件检测中,能够观察元器件的内部结构和表面形貌,分析其性能和质量;在材料科学研究方面,可对材料的微观组织、晶体结构等进行观察和分析,为材料的设计和改进提供依据。
使用OLS5100时,首先将设备连接到稳定的电源和合适的计算机系统。打开设备电源开关,等待设备初始化完成。将样品放置在样品台上,根据样品的大小和形状调整样品台的位置和角度。通过计算机软件设置扫描参数,如扫描范围、分辨率、扫描速度等。点击“开始扫描"按钮,设备将自动进行扫描和图像采集。扫描完成后,使用软件对图像进行处理和分析,如测量、标注、三维重建等。最后,保存分析结果和数据,关闭设备和计算机。
解锁微观奥秘:OLS5100共聚焦显微镜