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PRODUCTS CNTER徕卡DM8000M自动型半导体检查显微镜概述徕卡 DM8000M 是专为 8 英寸(200 mm)及以下晶圆设计的全自动正置金相显微镜。
徕卡 DM8000M 是专为 8 英寸(200 mm)及以下晶圆设计的全自动正置金相显微镜。仪器整体采用模块化结构,机身由高强度铝合金与钢制框架组合而成,保证了在长期高负荷使用下的刚性与稳定性。光学系统采用徕卡自研的多层镀膜物镜,提供 5×、10×、20×、50×、100× 五档放大倍率,兼容明场、暗场、斜照明以及透射光等多种观察模式,能够满足从宏观缺陷定位到微观结构分析的全流程需求。
在照明方面,DM8000M 采用最新的 LED 光源技术,光源集成在显微镜机身内部,热辐射极低,且具备超长寿命和低能耗的优势。用户可通过一键切换实现不同波段(可选 UV)和照明方式的切换,提升了对不同材料和缺陷类型的可视化效果。
电动载物台是本机的核心部件,行程 202 mm × 202 mm,步进精度达到 0.01 µm,支持全自动扫描、拼图和图像采集。配套的 600 万像素 CMOS 摄像头与 Leica LAS 软件实现实时图像显示、自动缺陷识别、尺寸测量以及批量数据导出,极大提升了生产线的检测效率。
主要技术参数
参数 | 规格 |
---|---|
最大样品尺寸 | 8 inch(200 mm)晶圆 |
物镜倍率 | 5×、10×、20×、50×、100× |
观察模式 | 明场、暗场、斜照、透射 |
载物台行程 | 202 mm × 202 mm |
步进精度 | 0.01 µm |
摄像头分辨率 | 600 万像素 |
照明光源 | 高效 LED(可选 UV) |
软件平台 | Leica LAS(图像采集、分析、报告) |
适用领域
半导体晶圆缺陷检测与过程控制
*封装结构检查
MEMS 结构表征
光刻掩模质量评估
使用说明要点
开机准备:检查 LED 光源连接、载物台校准以及摄像头状态。系统自检通过后进入主界面。
样品装载:使用专用晶圆夹具,将晶圆平稳放置在载物台中心,确保无尘。
模式选择:在软件中选择所需观察模式(如暗场用于金属颗粒检测),并调节光强。
自动扫描:设定扫描区域与步进距离,启动自动扫描,系统将自动完成图像拼接并生成缺陷报告。
数据导出:检测完成后,可将图像、测量数据及报告导出为 PDF、CSV 或 LAS 专有格式,便于后续分析与归档。
DM8000M 通过硬件与软件的深度融合,为半导体制造企业提供了从宏观到微观的全链路检测能力,帮助实现更高的良率与更稳定的工艺控制。