泽攸台阶仪工作原理与类型解析

　　在微纳制造与精密测量领域，表面形貌的纳米级精度检测是确保产品质量与工艺可靠性的关键。台阶仪作为这一领域的核心设备，通过探测样品表面的微观起伏，为半导体、新材料研发及生物医药等行业提供至关重要的数据支持。本文将系统解析泽攸台阶仪的工作原理，并介绍其不同类型与应用特点。
 

　　泽攸台阶仪工作原理与类型

　　一、工作原理

　　泽攸台阶仪是一种基于白光干涉原理的微纳表面形貌测量仪器。其核心工作流程为：光源发出的白光经分光镜分成两束，一束照射样品表面，另一束照射参考镜面，两束光反射后发生干涉。当样品表面与参考镜面光程差接近零时，产生干涉条纹，通过精密压电陶瓷驱动样品台垂直扫描，探测器记录干涉信号随高度的变化，经算法处理即可重建出三维表面形貌，实现纳米级台阶高度测量。

　　二、主要类型

　　根据应用场景和性能差异，泽攸台阶仪主要分为：

　　1.标准型台阶仪：采用接触式探针测量，适用于常规微米级台阶高度检测，测量范围大（可达数毫米），但可能对软质样品产生划痕。

　　2.非接触式白光干涉台阶仪：采用光学干涉原理，无接触测量，避免样品损伤，分辨率可达亚纳米级，适用于精密光学元件、MEMS器件等表面形貌分析。

　　3.高精度型台阶仪：配备高稳定性环境控制系统和减震平台，适用于超精密测量和科研领域，重复性精度优于0.1nm。

　　三、应用领域

　　泽攸台阶仪广泛应用于半导体工艺监控、薄膜厚度测量、MEMS器件表征、光学元件检测、材料表面粗糙度分析等领域，是微纳制造和质量控制的关键设备。