在光学元件检测、半导体制造、航空航天等高精度领域，表面形貌的精准测量与波前误差分析是保障产品性能的核心环节。ZYGO作为全球光学计量领域的，其共聚焦激光干涉仪系列凭借创新的光学设计与智能化功能，为工业与科研用户提供了兼顾效率与可靠性的解决方案，助力突破技术瓶颈。

技术融合：共聚焦与干涉原理的协同创新

ZYGO共聚焦激光干涉仪突破传统干涉仪单一测量模式的局限，通过共聚焦成像与干涉测量技术的深度融合，实现了对复杂表面的多维表征：

• 共聚焦成像模块：利用点光源照明与针孔滤波原理，可对微纳结构、透明薄膜等样品进行非接触式层析成像，支持从纳米级粗糙度到毫米级形貌的跨尺度检测。例如，在半导体晶圆检测中，该技术可清晰分辨多层镀膜的界面形貌，为工艺优化提供数据支撑。

• 干涉测量模块：基于双频激光稳频技术，通过分析参考光与测量光的干涉条纹，可精准量化表面平面度、波前畸变等参数。其相位测量精度达λ/10000（RMS重复性<0.06nm），满足高精度光学元件的制造标准。

• 动态耦合分析：部分型号（如Verifire HDX）集成DynaPhase®动态采集技术，可实时补偿环境振动干扰，确保在非理想工况下仍能获取稳定数据，适用于生产线在线检测场景。

核心优势：效率、精度与易用性的平衡

1. 智能化操作体验
   新一代Qualifire™系列引入平面腔自动对焦与智能附件识别功能，用户仅需放置样品，系统即可自动完成对焦、参数配置与误差补偿。例如，安装球面参考镜时，仪器可自动加载出厂校准数据并拟合系统误差，将设置时间缩短。其飞点环纹抑制技术通过动态照明模式消除干涉腔内相干噪声，显著提升信噪比，尤其适用于高反射率样品的检测。

2. 多场景适应性设计

• 轻量化与模块化：Qualifire™系列最轻型号仅21kg，配备密封光学系统与便携式手柄，支持实验室与生产现场的灵活部署。其光学支脚采用防尘设计，避免灰尘积累导致的伪影，降低维护成本。

• 多表面测量能力：Verifire MST型号通过波长调制与傅里叶变换算法，可同时解析平行平板的前后表面形貌及光学厚度变化，一次采集即可获取多项关键参数，大幅提升检测效率。

• 大口径与高分辨率兼容：Verifire HDX搭载3.4kx3.4k传感器，结合优化光学设计，在全分辨率下实现96Hz帧率，兼顾中频特征分析与高速采样需求，适用于大口径非球面镜片的检测。

3. 数据深度分析能力
   配套Mx™分析软件提供Zernike多项式拟合、功率谱密度（PSD）分析等工具，支持从微观缺陷到宏观形变的量化评估。例如，在激光核聚变装置的光学元件检测中，该软件可精准定位亚表面损伤位置，为抛光工艺提供改进方向。

典型应用：从实验室到产业化的全链条覆盖

• 光学制造：某镜片厂商利用Verifire™系列检测自由曲面镜片，通过PSD分析优化加工参数，使面形精度提升至λ/40 PV，产品良率显著提高。

• 半导体设备：在极紫外光刻（EUV）掩模版检测中，Qualifire™的纳米级粗糙度测量功能帮助用户识别衬底表面污染，降低光刻缺陷率。

• 航空航天：某卫星制造商采用Verifire MST测量星载望远镜的平行平板，通过同步获取前后表面形貌与厚度变化数据，缩短了光学系统的装调周期。

• 科研探索：在量子计算领域，研究人员利用该系列仪器表征超导量子比特的微波腔表面质量，为提升量子态相干时间提供关键数据。

用户价值：以技术迭代驱动长期收益

ZYGO共聚焦激光干涉仪通过持续的技术升级与本土化服务支持，为用户创造长期价值：

• 兼容性设计：支持与主流品牌TEM、SEM等设备联动，构建多模态表征平台。

• 快速响应服务：在中国设有多个技术中心，提供设备校准、操作培训与定制化解决方案，确保用户需求及时落地。

• 投资回报优化：某消费电子厂商通过引入Qualifire™替代传统检测设备，将单件检测成本降低，同时提升了产品光学性能的市场竞争力。

结语：以光学精度，定义未来制造标准

ZYGO共聚焦激光干涉仪系列通过技术创新与场景深耕，重新定义了精密测量的边界。无论是追求精度的科研机构，还是需要高效质检的工业客户，该系列均能提供适配的解决方案。选择ZYGO，即是选择一种更智能、更灵活、更贴近实际需求的测量方式，助力您在精密制造与科研创新的道路上稳步前行。

探索更多可能，立即联系ZYGO授权代理商，获取定制化解决方案与产品试用机会。

技术融合：共聚焦与干涉原理的协同创新

ZYGO共聚焦激光干涉仪突破传统干涉仪单一测量模式的局限，通过共聚焦成像与干涉测量技术的深度融合，实现了对复杂表面的多维表征：

• 共聚焦成像模块：利用点光源照明与针孔滤波原理，可对微纳结构、透明薄膜等样品进行非接触式层析成像，支持从纳米级粗糙度到毫米级形貌的跨尺度检测。例如，在半导体晶圆检测中，该技术可清晰分辨多层镀膜的界面形貌，为工艺优化提供数据支撑。

• 干涉测量模块：基于双频激光稳频技术，通过分析参考光与测量光的干涉条纹，可精准量化表面平面度、波前畸变等参数。其相位测量精度达λ/10000（RMS重复性<0.06nm），满足高精度光学元件的制造标准。

• 动态耦合分析：部分型号（如Verifire HDX）集成DynaPhase®动态采集技术，可实时补偿环境振动干扰，确保在非理想工况下仍能获取稳定数据，适用于生产线在线检测场景。

核心优势：效率、精度与易用性的平衡

1. 智能化操作体验
   新一代Qualifire™系列引入平面腔自动对焦与智能附件识别功能，用户仅需放置样品，系统即可自动完成对焦、参数配置与误差补偿。例如，安装球面参考镜时，仪器可自动加载出厂校准数据并拟合系统误差，将设置时间缩短。其飞点环纹抑制技术通过动态照明模式消除干涉腔内相干噪声，显著提升信噪比，尤其适用于高反射率样品的检测。

2. 多场景适应性设计

• 轻量化与模块化：Qualifire™系列最轻型号仅21kg，配备密封光学系统与便携式手柄，支持实验室与生产现场的灵活部署。其光学支脚采用防尘设计，避免灰尘积累导致的伪影，降低维护成本。

• 多表面测量能力：Verifire MST型号通过波长调制与傅里叶变换算法，可同时解析平行平板的前后表面形貌及光学厚度变化，一次采集即可获取多项关键参数，大幅提升检测效率。

• 大口径与高分辨率兼容：Verifire HDX搭载3.4kx3.4k传感器，结合优化光学设计，在全分辨率下实现96Hz帧率，兼顾中频特征分析与高速采样需求，适用于大口径非球面镜片的检测。

3. 数据深度分析能力
   配套Mx™分析软件提供Zernike多项式拟合、功率谱密度（PSD）分析等工具，支持从微观缺陷到宏观形变的量化评估。例如，在激光核聚变装置的光学元件检测中，该软件可精准定位亚表面损伤位置，为抛光工艺提供改进方向。

典型应用：从实验室到产业化的全链条覆盖

• 光学制造：某镜片厂商利用Verifire™系列检测自由曲面镜片，通过PSD分析优化加工参数，使面形精度提升至λ/40 PV，产品良率显著提高。

• 半导体设备：在极紫外光刻（EUV）掩模版检测中，Qualifire™的纳米级粗糙度测量功能帮助用户识别衬底表面污染，降低光刻缺陷率。

• 航空航天：某卫星制造商采用Verifire MST测量星载望远镜的平行平板，通过同步获取前后表面形貌与厚度变化数据，缩短了光学系统的装调周期。

• 科研探索：在量子计算领域，研究人员利用该系列仪器表征超导量子比特的微波腔表面质量，为提升量子态相干时间提供关键数据。

用户价值：以技术迭代驱动长期收益

ZYGO共聚焦激光干涉仪通过持续的技术升级与本土化服务支持，为用户创造长期价值：

• 兼容性设计：支持与主流品牌TEM、SEM等设备联动，构建多模态表征平台。

• 快速响应服务：在中国设有多个技术中心，提供设备校准、操作培训与定制化解决方案，确保用户需求及时落地。

• 投资回报优化：某消费电子厂商通过引入Qualifire™替代传统检测设备，将单件检测成本降低，同时提升了产品光学性能的市场竞争力。

结语：以光学精度，定义未来制造标准

ZYGO共聚焦激光干涉仪系列通过技术创新与场景深耕，重新定义了精密测量的边界。无论是追求精度的科研机构，还是需要高效质检的工业客户，该系列均能提供适配的解决方案。选择ZYGO，即是选择一种更智能、更灵活、更贴近实际需求的测量方式，助力您在精密制造与科研创新的道路上稳步前行。

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