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OLS5100共聚焦显微镜多领域应用实用工具

产品简介

OLS5100共聚焦显微镜多领域应用实用工具
奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100,凭借其出色的三维成像能力与丰富的分析功能,广泛应用于材料科学、半导体制造、生物医学等多个领域,成为科研与工业检测人员的实用工具。

产品型号:
更新时间:2025-09-12
厂商性质:代理商
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OLS5100共聚焦显微镜多领域应用实用工具

奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100,凭借其出色的三维成像能力与丰富的分析功能,广泛应用于材料科学、半导体制造、生物医学等多个领域,成为科研与工业检测人员的实用工具。

产品细节与性能

OLS5100采用反射型共聚焦激光扫描原理,配备405nm激光光源,短波长特性赋予其优秀的横向分辨率,能清晰捕捉样品表面极细微的纹理和缺陷。设备拥有彩色成像和激光共聚焦两套系统,彩色成像光学系统利用白光LED光源和CMOS图像传感器获取样品彩色信息,激光共聚焦光学系统借助405nm激光二极管光源和高灵敏度光电倍增管,获得样品3D轮廓信息和高清图像,仅接收通过圆形针孔聚焦的光线,有效消除模糊,实现比普通显微镜更高的图像对比度。

OLS5100支持多种扫描模式,快速扫描适合初步观察样品整体情况,精细扫描适合高分辨率三维重构,获取样品详细微观结构信息。其3D分析功能丰富,可计算表面粗糙度、体积、台阶高度、孔隙率等多种参数,满足不同领域对样品形貌分析的需求。

用材与参数表

核心光学部件选用高透光率石英玻璃,配合多层镀膜技术,减少激光能量损失与杂散光干扰。样品台台面采用耐磨陶瓷材质,表面平整度误差小于2μm,抗腐蚀且耐高温。内部机械传动部件采用精密滚珠丝杠与伺服电机,保障长期使用后的运动精度。

参数项具体数值
激光波长405nm
纵向分辨率10nm
横向分辨率100nm
扫描范围X/Y轴最大150mm×150mm,Z轴最大10mm
样品台承重5kg
扫描模式2D成像、3D扫描、线扫描
图像分辨率最高4096×4096像素
分析功能粗糙度、体积、台阶高度计算等
综合倍率54x-17280x
视场范围16μm-5120μm

型号与用途

OLS5100提供多种型号,如OLS5100-SAF、OLS5100-SMF、OLS5100-LAF等,适用于不同领域与场景。在材料科学领域,可用于金属材料的微观结构观察,分析晶粒大小、晶界情况,帮助研究人员了解材料性能与加工工艺之间的关系;在半导体材料研究里,能对芯片表面的微电路结构进行测量和分析,助力提升芯片制造的精度和质量;在生物医学领域,可观察细胞在支架表面的黏附形态、生物涂层的三维结构,为生物材料研发提供数据支持。

使用说明

使用OLS5100时,首先根据检测领域与样品类型选择合适的型号与物镜。将设备放置在稳定的工作环境中,连接电源与相关配件。打开设备电源,进行预热与激光校准。样品制备需符合共聚焦测量要求,确保样品表面清洁、干燥。将样品放置在样品台上,通过操作界面设置扫描参数,如扫描范围、分辨率、扫描速度等。选择合适的扫描模式,启动扫描后,设备自动完成数据采集与处理。扫描完成后,利用配套软件进行数据分析,计算所需参数,生成检测报告。定期对设备进行维护与保养,清洁光学镜头与激光出射口,确保设备性能稳定。

OLS5100以其通用性与实用性,为多领域的研究与检测提供了有力支持,成为科研与工业检测人员的工具。

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