OLS5100激光共聚焦显微镜开启微观分析

在科技不断进步的今天，微观世界的奥秘吸引着众多科研与工业检测人员的探索。奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS5100，以其独特的技术优势，为微观分析开启了新的篇章。

产品细节：创新设计潮流

OLS5100采用优良的X - Y扫描振镜技术，将采用电磁感应MEMS谐振扫描仪的X轴与采用Galvano扫描振镜的Y轴相结合，让X - Y扫描仪定位于相对物镜瞳镜共轭的位置，实现具有较低扫描轨迹失真和较小光学像差的X - Y扫描。这种创新设计，使得设备在扫描过程中能够更准确地捕捉样品的微观信息，为后续的分析提供可靠的数据基础。

产品性能：观测与分析能力

OLS5100具备出色的三维成像能力，能够捕捉任意表面形状。其扫描算法既可提高数据质量又可提高速度，从而缩短扫描时间，简化工作流程，提升生产力。设备支持非接触、非破坏的观察方式，仅需按下“Start（开始）"按钮，用户就能在亚微米级进行精细的形貌测量。对于需要观察大型样品的客户，LEXT的长工作距离物镜和选配的扩展机架使得系统能够适用于高达210mm的样本。

用材精良：保障设备的长期稳定运行

核心光学部件选用高透光率石英玻璃，配合多层镀膜技术，减少激光能量损失与杂散光干扰。样品台台面采用耐磨陶瓷材质，表面平整度误差小于2μm，抗腐蚀且耐高温。内部机械传动部件采用精密滚珠丝杠与伺服电机，保障长期使用后的运动精度。这些优质的材料选择，确保了设备在长时间的使用过程中能够保持稳定的性能，为用户提供可靠的观测结果。

参数表：全面了解设备的关键指标

型号丰富：满足不同应用场景

OLS5100提供多种型号，如OLS5100 - SAF、OLS5100 - LAF等。OLS5100 - SAF适用于对精度要求较高的半导体检测等领域，其高分辨率和精准的测量能力能够满足芯片表面微结构的分析需求；OLS5100 - LAF则更适合大型机械零件的粗糙度分析，其较大的样品容纳空间和长工作距离物镜，能够方便地对大型样品进行观测和测量。

用途多元：科研与工业的双重助力

在纳米材料研发中，OLS5100可观察纳米颗粒的分散状态，为材料的性能优化提供依据；在薄膜科学研究中，测量薄膜的厚度均匀性和表面粗糙度，帮助研究人员改进沉积工艺；在生物医学领域，观察细胞在支架表面的黏附形态，为组织工程和再生医学的研究提供重要信息；在金属材料研究中，分析金属疲劳后的纳米级裂纹扩展，为材料的寿命评估和改进提供数据支持。

使用说明：简单便捷的操作体验

使用前，将设备放置在稳定的工作环境中，连接电源与相关配件。打开设备电源，进行预热与激光校准。样品制备需符合共聚焦测量要求，确保样品表面清洁、干燥。将样品放置在样品台上，通过操作界面设置扫描参数，如扫描范围、分辨率、扫描速度等。选择合适的扫描模式，启动扫描后，设备自动完成数据采集与处理。扫描完成后，利用配套软件进行数据分析，计算所需参数，生成检测报告。