Sensofar多模式切换：全表面测量的实现路径

产品简介

Sensofar多模式切换：全表面测量的实现路径
Sensofar S neox 通过共聚焦、干涉、多焦面叠加技术的无缝切换，实现了从亚纳米级光滑表面到毫米级粗糙结构的全范围测量覆盖。

产品型号：S neox

更新时间：2025-10-13

厂商性质：代理商

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Sensofar多模式切换：全表面测量的实现路径

Sensofar S neox 通过共聚焦、干涉、多焦面叠加技术的无缝切换，实现了从亚纳米级光滑表面到毫米级粗糙结构的全范围测量覆盖。

共聚焦技术通过针孔过滤非焦点光线，获取高对比度二维图像，纵向扫描后构建 3D 形貌。该模式横向分辨率达 0.10μm，搭配 150 倍、0.95 数值孔径镜头时，光滑表面测量斜率达 70°，粗糙表面达 86°，Z 轴测量重复性稳定在纳米级别。适用于微小线条、缝隙等精细结构的识别，如半导体芯片的线路形貌检测。

白光干涉与相位移干涉模式针对不同光滑度表面优化：白光干涉纵向分辨率 0.1nm，适配略带粗糙的表面；相位移干涉达亚纳米级精度，专为超光滑表面设计，且二者均不受放大倍数影响。多焦面叠加技术则聚焦粗糙表面，单次扫描深度 8mm，能应对模具、增材制造零件等复杂结构的测量需求。

这些模式的切换通过智能光学引擎自动完成，用户只需点击一次操作，系统便依据测量任务特性选择适配技术。例如测量光学镜片的超光滑表面时，自动切换至相位移干涉；检测模具的粗糙结构时，启动多焦面叠加模式。

技术模式适配表

测量模式	核心参数	适配表面类型
共聚焦	横向 0.10μm，斜率 86°	精细结构、中等粗糙表面
白光干涉	纵向 0.1nm，扫描深 8mm	略带粗糙表面
相位移干涉	亚纳米级纵向精度	超光滑表面
多焦面叠加	8mm 深度，86° 斜率	粗糙、复杂结构表面