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产品简介
Sensofar白光干涉仪：高分辨表面形貌测量Sensofar白光干涉仪采用非接触式光学测量技术，适用于微纳米级表面形貌分析，可满足半导体、精密制造、材料科学等领域的高精度检测需求。
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Sensofar白光干涉仪：高分辨表面形貌测量
Sensofar白光干涉仪采用非接触式光学测量技术，适用于微纳米级表面形貌分析，可满足半导体、精密制造、材料科学等领域的高精度检测需求。
•测量范围：垂直分辨率达0.1nm，横向分辨率1μm
•多模式检测：支持白光干涉（WLI）、共聚焦（CLI）、聚焦变化（FVI）
•快速扫描：高速采集数据，减少测量时间
•大视野兼容：适配不同放大倍率物镜，支持小区域至大面积扫描
•光学系统：高稳定性干涉镜头，减少环境干扰
•样品台：精密电动载物台，定位精度高
•软件分析：内置3D形貌重建、粗糙度计算、台阶高度分析等功能
型号 | S neox | S mart |
|---|---|---|
垂直分辨率 | 0.1nm | 1nm |
横向分辨率 | 1μm | 2μm |
最大视场 | 10mm×10mm | 5mm×5mm |
扫描速度 | 高速模式可选 | 标准模式 |
兼容物镜 | 2.5X~150X | 5X~100X |
•半导体晶圆表面缺陷检测
•MEMS器件三维形貌分析
•精密光学元件面型测量
•材料表面粗糙度与台阶高度表征
1.样品准备：确保表面清洁，避免强反射干扰测量。
2.模式选择：根据样品特性选用WLI、CLI或FVI模式。
3.参数设置：调整扫描范围、分辨率及物镜倍率。
4.数据分析：通过软件生成3D形貌图并导出测量报告。
Sensofar白光干涉仪以灵活的测量模式和稳定的性能，助力科研与工业检测。如需技术演示或定制方案，欢迎联系支持。Sensofar白光干涉仪：高分辨表面形貌测量