ZYGO ZeGage Pro测量模式探讨

ZYGO ZeGage Pro测量模式探讨

• 工作原理：系统驱动干涉物镜或样品台在垂直方向进行连续或步进式扫描，同时在每一个Z轴位置捕获一幅完整的干涉图像。对于样品表面的每一点，软件分析其在扫描过程中光强变化的曲线，并确定干涉包络峰值对应的Z轴位置，该位置即代表该点的高度。

  
  

• 适用性：适用于大多数具有连续表面的样品，特别适合测量具有微小台阶、中等粗糙度或一定起伏的表面。它对振动的敏感度相对较低，垂直测量范围较宽（可从亚微米到数毫米），在分辨率和测量范围之间提供了较好的平衡。

  
  

• 特点：通用性强，是处理未知表面或常规测量的shou 选模式。

  
  

• 工作原理：在每个扫描位置，通过压电陶瓷微动参考镜，精确引入一系列已知的、小幅度的相位偏移（例如，每次移动光波长的四分之一，即90度相位）。在每个相位偏移点采集一幅干涉图（通常需要5幅或更多）。利用这些相移干涉图，通过特定的相位解算算法，可以直接计算出每个像素点精确的相位差，并转换为高度信息。这种方法不依赖于包络检测，避免了包络宽化带来的误差。

  
  

• 适用性：专门用于测量极其光滑的表面，如高质量的光学镜面、抛光硅片、超光滑薄膜等。这些表面的起伏通常远小于光源的波长。

  
  

• 特点：垂直分辨率可达亚纳米甚至更高。但其有效测量范围很小（通常小于一个波长，约几百纳米），且对环境振动和空气扰动非常敏感，需要更稳定的测量条件。

  
  

• 工作原理：软件根据对样品预览图像的初步分析（如对比度、纹理特征），自动推荐使用VSI模式还是PSI模式，并可能预设一组优化的扫描参数。更高级的系统可以在一次测量中，对样品的不同区域自适应地采用不同的扫描策略（例如，对平坦区域采用PSI模式追求高分辨率，对台阶或粗糙区域自动切换为VSI模式保证量程），然后将数据无缝融合。

  
  

• 适用性：适用于用户对样品特性不太熟悉，或希望简化操作流程的场景。对于表面同时包含超光滑区域和较大起伏结构的样品，此模式可能表现出优势。

  
  

• 特点：降低了模式选择的专业性要求，有助于快速获得有效数据。

  
  

• 工作原理：在电动样品台的支持下，系统按照预设的网格路径（如2x2, 3x3等），自动移动样品，依次测量相邻且部分重叠的多个子区域。随后，软件利用重叠区域的形貌特征进行自动识别和配准，将所有子区域的三维数据拼接成一幅完整的大面积三维形貌图。

  
  

• 适用性：用于测量尺寸较大的样品，如大型光学元件、机械密封面、显示屏局部等，以评估整体面形、平整度或大范围的纹理分布。

  
  

• 特点：在保持高分辨率的同时，扩展了横向测量范围。

  
  

• 工作原理：当白光照射到薄膜上时，从薄膜上表面和下表面反射的光会发生干涉。在垂直扫描过程中，这两个反射面会产生两个干涉包络峰。通过分析这两个峰值之间的Z轴距离（光学厚度差），并结合薄膜的折射率，可以计算出薄膜的物理厚度。

  
  

• 适用性：主要用于测量单层透明薄膜的厚度，如硅片上的二氧化硅层、光学镀膜、光刻胶等。

  
  

• 特点：是一种非接触、非破坏性的膜厚测量方法。对于多层膜或吸收性较强的薄膜，分析会更为复杂。

  
  

• 表面粗糙度：光滑表面（Ra < 10 nm）可考虑PSI模式；粗糙表面选择VSI模式。

  
  

• 表面起伏或台阶高度：存在大于约150纳米台阶的表面，应使用VSI模式。

  
  

• 测量速度需求：VSI模式扫描范围大，单次测量时间可能稍长；PSI模式扫描范围小，有时更快。

  
  

• 环境稳定性：PSI模式对振动敏感，需在更稳定环境中使用。

  
  

• 样品反射率：两种模式均需足够的反射信号。

  
  

通过理解并合理选择这些测量模式，用户可以更有效地应对各种表面测量挑战，充分发挥ZYGO ZeGage Pro的测量能力。

ZYGO ZeGage Pro测量模式探讨