液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)是当前社会中应用非常多的显示器，在日常生活中随处可见。LCD主要由彩色滤光片基板(Colorfilter，CF)、TFT阵列(TFTArray)基板和背光模块(Backlightunit)三大部分所组成。TFTLCD面板结构（图片来源于网络）在这三大组成部分里面，背光模块对LCD非常重要，因为背光质量决定了液晶显示屏的亮度、出射光均匀度、色阶等重要参数，决定了液晶显示器的发光效果。在背光模块中有一层非常重要的光学薄...

每当发生命案，社会广泛关注，尽早破案，最快找到凶手是每个人的心声。但是随着*罪分子反侦察技术不断提高，作案手段智能化发展趋势，*罪分子通过毁灭证据，*装现场等手段，掩盖或破坏*罪现场，使得刑事侦察难上加难，为此我们有必要借助某些精密设备，更快的找到*罪第一现场，更快找到真凶，还原事情真相，作出公正的判罚。扫描电镜在司法鉴定行业发挥着不可忽略的作用，它具有检测快速简便，取材少，无损检测，放大倍数高等一系列优点，成为刑事技术检测的重要工具。ZEM15扫描电镜是泽攸科技自主研发的钨...

在现代制造业和科研领域，平面度的精确测量至关重要。无论是汽车发动机的缸盖密封性检测，还是航空发动机叶片的平整度评估，都需要依赖高精度的测量工具。白光干涉仪，凭借其优秀的横向和纵向分辨率，已成为平面度测量的选择利器。白光干涉仪的工作原理基于光的干涉现象。当一束白光照射在待测物体表面时，会形成反射光和透射光。这两束光相遇后，会产生干涉现象，形成明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的形状和间距与物体表面的形貌密切相关。通过比较标准平面和待测物体表面的干涉条纹，我们可以精确计算出待测物体表面...

在现代科技飞速发展的今天，精密测量仪器的设计不仅要满足高精度的测量需求，更要注重美观与集成的便捷性。三维共聚焦白光干涉仪测量头，以其杰出的性能和特殊的设计，成为了市面上最漂亮的可集成区域共聚焦传感器之一。这款测量头的设计充分体现了现代工业设计的精髓。其外观简洁流畅，线条优美，无论是从哪个角度看，都透露出一种精致的美感。同时，它的体积小巧，结构紧凑，这使得它在集成到各种测量系统中时，能够轻松融入，不会占用过多空间，也不会干扰到其他设备的正常运行。更重要的是，这款三维共聚焦白光干...

在当今的材料科学与纳米技术领域，原位分析技术已经成为科学家们探索微观世界至关重要的工具。其中，泽攸科技推出的SEM（扫描电子显微镜）和TEM（透射电子显微镜）原位分析系统，以其杰出的性能和广泛的应用领域，赢得了国内外科研人员的广泛赞誉。SEM原位分析系统通过电子束扫描样品表面，利用二次电子、背散射电子等信号成像，能够直观展示样品的表面形貌和化学成分分布。这一技术不仅分辨率高，而且景深大，使得样品表面的微小细节得以清晰呈现。更重要的是，泽攸SEM原位分析系统还配备了原位拉伸、加...

Sensofar共聚焦白光干涉仪是一种高性能的3D光学轮廓测量仪器，其结合了共聚焦、干涉测量等多种先进技术，实现了对物体表面形貌的高精度测量。以下是对其测量原理与技术的详细解析：一、测量原理干涉测量原理干涉技术的基本原理是将光分成光学传播路径不同的两个光束，然后再合并，从而产生干涉现象。在干涉物镜的作用下，显微镜可以作为干涉仪工作。当焦点对准后，可在样本上观察到干涉条纹。这些条纹的强度和相位信息反映了样本表面的高度信息。共聚焦测量原理共聚焦技术通过多个光源和探测器组合，实现对...

随着半导体技术的不断发展，芯片尺寸的逐渐缩小以及制造工艺的精细化，使得对材料和器件表面精度的要求越来越高。在半导体行业，尤其是在集成电路(IC)和光刻工艺中，表面平整度（平面度）的测量变得尤为重要。传统的平面度测量方法往往难以满足现代半导体制造的高精度需求，而白光干涉仪因其非接触、高分辨率、全局性测量特性，成为半导体行业中的一种重要工具，广泛应用于半导体制造中的平面度检测。一、白光干涉仪原理概述本仪器基于干涉原理，利用白光源的宽光谱特性，通过测量反射光与参考光之间的干涉条纹来...

观察–分析–辨别在微电子学和微电子机械系统工业中，您需要观察、分析和辨别产品的特性。过程控制和失效分析中同样需要使用显微镜。设备物理结构的知识对了解过程至关重要。微电子产品的开发和微电子机械系统（MEMS）的设计依赖于高效的显微镜。运用不同的光学显微技术，可以检测产品的不同特征，如裂纹、孔洞或结点。在小型机械设备制造中，光学显微镜常常被用来评估模型及用于监测精密机械加工结果。质量控制–需要合适的工具三维成像技术能为很多质量控制方面的检测提供便利。共焦扫描显微镜可检测诸如焊接点...