探索 Sensofar 白光干涉仪开启微观测量新篇 在科研与工业制造迈向精密化的当下，微观世界的精确测量愈发关键。Sensofar 白光干涉仪，凭借前沿技术与精心设计，成为诸多领域探索微观奥秘、把控产品质量的得力伙伴。
产品细节：精巧设计，操作便利
Sensofar 白光干涉仪造型紧凑，不占过多空间，可轻松适配各类实验与生产环境。仪器外观线条流畅，尽显工艺美感。其操作界面简洁直观，功能按键布局合理，即便是初次接触的使用者，也能迅速熟悉操作流程，高效开展测量工作。设备的样品台设计精妙，能够稳固承载不同形状与尺寸的样品，同时支持灵活调整，确保样品处于优良测量位置。
产品性能：多元技术，稳定可靠
这款仪器融合共聚焦显微镜与白光干涉测量等多种技术。共聚焦模式在应对高陡坡、不透明或高反射率样品时表现，可清晰捕捉复杂表面的细微结构。白光干涉模式则在光滑表面测量方面优势，能够提供纵向分辨率，特别适用于光学薄膜、半导体晶圆等超精密检测场景。两种模式可根据样品特性自动切换或协同使用，极大地拓展了仪器的适用范围，确保在不同样品上都能获取精准的测量数据。并且，设备在运行过程中展现出良好的稳定性，受外界环境干扰影响较小，为测量结果的可靠性提供有力保障。
用材讲究：品质之选，耐用持久
Sensofar 白光干涉仪在选材上极为用心。核心光学部件选用高品质光学玻璃，具备出色的透光性与低色散特性，能有效减少光线传播过程中的能量损失与图像畸变，确保测量成像的清晰度与准确性。仪器内部的机械结构采用高强度、耐腐蚀的金属材料，不仅保证了设备整体的稳固性，还显著提升了其抗磨损能力，即便长期处于高频使用状态，也能维持良好的性能，延长设备的使用寿命，降低用户的使用成本。
型号多样，参数丰富
以旗舰产品 S neox 为例，其横向分辨率可达 0.14μm，纵向精度更是突破 0.1nm，能够精准识别极其微小的表面特征变化。设备支持多种放大倍数物镜切换，满足不同尺寸样品与测量精度需求。同时，具备快速扫描功能，可在短时间内完成大面积样品的测量工作，显著提升检测效率。此外，Sensofar 还有适用于不同应用场景的其他型号产品，如用于工业在线检测的 Sonix 系统，凭借高速摄像头与优化光学设计，将测量速度提升至传统干涉系统数倍，且在保持高垂直分辨率的同时，实现了对大批量生产产品的实时质量监控。
广泛用途：多领域大显身手
在半导体制造领域，Sensofar 白光干涉仪发挥着至关重要的作用。它能够精确检测晶圆表面粗糙度、薄膜厚度均匀性以及蚀刻工艺后的台阶高度，为芯片制造的良品率提供坚实保障。例如在 5G 通信用碳化硅基晶圆制备过程中，借助仪器的白光干涉模式，可量化晶体生长的均匀性，有效避免因表面缺陷引发的芯片性能衰减问题。在光学镜片生产中，可用于检测透镜、反射镜等元件的表面瑕疵，如划痕、凹坑、污染以及面形误差，确保光学元件的成像质量。在消费电子零部件检测方面，对于手机玻璃盖板、陶瓷背板等部件的表面粗糙度与缺陷测量，能够满足产线 100% 全检的严格要求，通过高速扫描与 AI 缺陷分类技术，实现实时质量控制，提升产品品质。
使用说明：规范操作，保障效果
初次使用 Sensofar 白光干涉仪时，需仔细检查设备外观有无损坏，各部件连接是否牢固。将仪器放置在平稳、无振动的工作台上，并确保工作环境温度、湿度适宜。连接好电源及相关配件后，开启设备进行预热，待设备稳定后，依据样品特性选择合适的测量模式与参数。放置样品时，务必小心轻放，避免损伤样品与仪器样品台。测量过程中，密切关注仪器运行状态，如发现图像异常、测量数据波动过大等情况，应立即停止测量，排查故障原因。测量完成后，及时关闭设备电源，清理样品台，并定期对仪器进行清洁与维护，确保设备始终处于良好的工作状态。
Sensofar 白光干涉仪凭借其出色的设计、稳定的性能、丰富的功能以及广泛的适用性，为科研工作者与工业生产者提供了可靠的微观测量解决方案，助力各行业在精密测量领域不断突破，迈向新的高度。探索 Sensofar 白光干涉仪开启微观测量新篇
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