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产品简介
Sensofar光学干涉仪半导体与光学领域应用Sensofar S neox 是一款集共聚焦、白光干涉和多焦面叠加三种测量模式于一体的三维光学轮廓仪，适用于实验室研发和工业生产线的表面形貌检测。
产品分类
Sensofar光学干涉仪半导体与光学领域应用
半导体晶圆与 MEMS 器件：利用共聚焦‑干涉协同测量，能够同时获取焊点高度、直径和倾斜角等关键参数，重复性误差控制在 0.3 % 以内，帮助芯片制造商提升缺陷检测效率约 40 %。
光学镜片与薄膜厚度：白光干涉模式对亚纳米级薄膜（5 nm – 100 µm）实现无损厚度测量，配合偏振编码技术可分离上下表面信号，满足 OLED、AR 镀膜等高精度光学元件的质量控制需求。
生物医学材料：在人工关节、组织支架等生物材料表面，S neox 能提供 0.1 nm 纵向分辨率的微观形貌数据，帮助研发团队评估表面粗糙度对细胞黏附的影响。
新能源与储氢容器：对金属氢化物涂层进行原位形变监测，分辨率 ±0.1 µm，支持工艺参数的实时优化。
三、S neox参数与型号对比
| 参数 | S neox 5（多功能型） | S neox 3（经济型） |
|---|---|---|
| 纵向分辨率（干涉） | 0.1 nm | 0.1 nm |
| 横向分辨率（共聚焦） | 0.10 µm | 0.30 µm |
| 最大 Z 扫描范围 | 10 mm | 10 mm |
| XY 行程 | 125 mm × 75 mm | 125 mm × 75 mm |
| 测量速度 | ≤3 s/扫描（高速模式） | ≤5 s/扫描 |
| 适用场景 | 半导体、光学、精密加工 | 常规表面粗糙度检测 |
| 额外功能 | 五轴旋转台、AI 自动路径规划 | 基础共聚焦/干涉功能 |
两款型号均采用相同的光学平台和软件体系，区别主要在于硬件配置（如高 NA 物镜、五轴旋转台）和软件功能的深度。
