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共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2 测量模式解析

产品简介

共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2 测量模式解析
共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2提供了两种核心测量模式:共聚焦模式和白光干涉模式。理解这两种模式各自的原理、适用场景和特点,有助于在实际测量中做出更合适的选择,从而获得更有效的测量结果。

产品型号:
更新时间:2026-02-02
厂商性质:代理商
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共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2 测量模式解析
共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2提供了两种核心测量模式:共聚焦模式和白光干涉模式。理解这两种模式各自的原理、适用场景和特点,有助于在实际测量中做出更合适的选择,从而获得更有效的测量结果。
共聚焦测量模式:
  • 工作原理核心:基于光学层析和共轭针孔空间滤波。只有当样品表面某点精确位于物镜焦平面时,其反射光信号才能高效通过探测针孔。通过垂直扫描并检测每个像素点的光强峰值,确定其高度。


  • 主要适用表面类型


    • 漫反射表面:这是其优势领域。例如,未经抛光的金属、陶瓷、喷砂/喷丸表面、涂层、纸张、织物、某些生物组织等。这些表面将入射光向各个方向散射,共聚焦模式能有效收集来自焦平面的散射光,抑制离焦杂光。


    • 高陡坡或粗糙表面:对于侧壁角度较大或表面高度变化剧烈的样品,共聚焦模式通常比传统干涉法有更好的测量能力,因为它对表面斜率的变化相对不敏感。


    • 不连续表面或孤立特征:如颗粒、纤维、划痕边缘等。


  • 主要特点


    • 对漫反射表面成像对比度较好。


    • 垂直分辨率较高,能分辨细微的高度变化。


    • 受环境振动影响相对较小(因为逐点/线扫描)。


    • 对于非常光滑的镜面,可能因信号过强或反射光无法返回探测器而导致测量困难。


白光干涉测量模式:
  • 工作原理核心:基于白光干涉的短相干性。只有当样品光路与参考光路的光程差接近零(在相干长度内)时,才会产生清晰的干涉条纹。通过垂直扫描并分析每个像素点干涉信号包络的峰值位置(或相位),确定其高度。


  • 主要适用表面类型


    • 光滑的镜面或半镜面表面:这是其传统优势领域。例如,抛光硅片、光学玻璃、光滑金属表面、薄膜表面等。这些表面能产生清晰的干涉信号。


    • 连续缓变的表面:表面起伏平缓、连续。


    • 薄膜与台阶测量:特别适合测量透明薄膜厚度(通过上下表面反射光产生的干涉)和微米/纳米级别的台阶高度。


  • 主要特点


    • 测量速度通常较快,尤其是大面积光滑表面。


    • 具有达到亚纳米级别的垂直分辨率潜力。


    • 对光滑表面的微小高度变化非常敏感。


    • 对于粗糙或漫反射表面,干涉条纹对比度会下降甚至消失,导致测量失效或误差增大。


    • 对环境振动相对敏感,因为需要稳定的干涉条件。


S lynx2的整合优势:
S lynx2将两种模式整合在一台设备中,用户无需更换设备即可根据样品切换模式。软件通常会提供引导:
  • 自动模式推荐:基于预览图像的表面反射特性分析,软件可能建议使用哪种模式。


  • 组合扫描:对于某些复杂样品,不同区域可能适合不同模式。高级软件可能允许用户定义多个测量区域并分别设置模式。


  • 互补验证:对于某些中间特性的表面,可以用两种模式分别测量以交叉验证结果。


选择考量因素:
在实际选择时,可以综合考虑:
  1. 表面反射特性:镜面选干涉,漫反射选共聚焦。


  2. 表面粗糙度:非常光滑选干涉,中等至粗糙选共聚焦。


  3. 测量速度要求:快速大面扫描优先考虑干涉模式。


  4. 特征类型:测量孤立颗粒、高陡坡多用共聚焦;测量连续薄膜、微小台阶多用干涉。


  5. 环境条件:若振动较大,共聚焦模式可能更稳定。


通过理解并善用这两种测量模式,用户可以使共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2应对更广泛的表面测量挑战,获取更可靠的二维形貌数据。

共聚焦白光干涉轮廓仪S lynx2 测量模式解析

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