泽攸电镜ZEM20Ultro：台式电镜观测新体验

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泽攸电镜ZEM20Ultro：台式电镜观测新体验
在材料表征、生命科学、电子制造等领域，对微观结构的高分辨率观测是推动研究与生产的核心需求。ZEM20Ultro 台式场发射扫描电子显微镜（以下简称 ZEM20Ultro），以紧凑的台式设计、稳定的场发射性能与多元的分析功能，为各行业提供了便捷且可靠的微观观测解决方案，打破传统大型电镜对空间与操作环境的严苛限制。

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更新时间：2025-10-13

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泽攸电镜ZEM20Ultro：台式电镜观测新体验

在材料表征、生命科学、电子制造等领域，对微观结构的高分辨率观测是推动研究与生产的核心需求。ZEM20Ultro 台式场发射扫描电子显微镜（以下简称 ZEM20Ultro），以紧凑的台式设计、稳定的场发射性能与多元的分析功能，为各行业提供了便捷且可靠的微观观测解决方案，打破传统大型电镜对空间与操作环境的严苛限制。

一、产品细节与用材

ZEM20Ultro 采用一体化台式结构，整体尺寸约为 850mm×650mm×1000mm（长 × 宽 × 高），重量控制在 120kg 以内，无需单独建造专业实验室，普通通风橱或洁净工作台即可满足安置需求，大幅降低了使用门槛。机身外壳选用冷轧钢板与 ABS 工程塑料拼接，冷轧钢板表面经过静电喷塑处理，具备良好的抗腐蚀与抗刮擦性能；ABS 塑料部件则采用模具一体成型，减少接缝处的粉尘堆积，便于日常清洁维护。

核心部件的用材与设计直接决定观测精度。其场发射电子枪采用钨单晶针尖，针尖曲率半径小于 10nm，能稳定发射高亮度电子束，且使用寿命可达 2000 小时以上，减少频繁更换的维护成本。电子光学系统搭载多层膜电磁透镜，透镜材质为高纯度软磁合金，经过精密退火处理，可有效降低磁场干扰，确保电子束聚焦精度。样品室采用不锈钢材质，内壁经过电解抛光处理，表面粗糙度 Ra≤0.2μm，既能减少电子散射干扰，又能耐受酒精、丙酮等常用清洁剂的擦拭，保持样品室洁净。

操作界面设计注重实用性，配备 15.6 英寸高清触控屏，支持多点触控与手势缩放，常用功能（如放大、聚焦、图像保存）可通过快捷键一键调用。设备侧面预留 USB3.0、HDMI 等接口，方便连接外部存储设备与显示终端，数据导出与结果展示更为灵活。此外，样品台采用电动驱动设计，支持 X/Y/Z 三轴移动，最大行程分别为 50mm×50mm×20mm，移动精度可达 1μm，适配不同尺寸样品的观测需求。

二、产品性能表现

分辨率与放大倍数：ZEM20Ultro 在二次电子成像模式下，分辨率可达 1.5nm（加速电压 30kV 时），10nm（加速电压 1kV 时），能清晰呈现纳米级别的微观结构，如金属纳米颗粒的形貌、半导体芯片的电路细节。放大倍数范围覆盖 20×-1,000,000×，从宏观样品全貌观测到微观细节分析均可无缝切换，无需更换物镜或调整光路。

电子束稳定性：设备搭载数字式电子束控制模块，加速电压调节范围为 0.1kV-30kV，电流调节范围为 1pA-100nA，输出稳定性≤0.5%/h。即使在长时间连续观测（如 8 小时以上）中，电子束的强度与聚焦位置变化极小，确保获取的图像序列一致性良好，适合动态过程观测（如材料高温下的结构变化）。

样品兼容性：支持导电与非导电样品观测，非导电样品无需复杂镀膜处理，通过设备内置的低真空模式（真空度范围 1Pa-100Pa），可直接观测塑料、陶瓷、生物组织等绝缘样品，避免镀膜过程对样品表面结构的破坏。样品台最大承载重量为 50g，可适配直径≤30mm、厚度≤10mm 的样品，满足多数实验室与生产车间的样品规格需求。

三、用途与使用说明

（一）主要用途

材料科学领域：观测金属材料的显微组织、晶粒大小与分布，分析复合材料的界面结合状态，研究纳米材料的形貌与尺寸分布，为材料性能优化与新型材料研发提供微观数据支撑。

生命科学领域：在低真空模式下观测生物组织切片、细胞涂片的表面形貌，无需脱水或镀膜处理，保持样品自然状态；分析医用材料（如人工gu、支架）的表面孔隙结构，评估其生物相容性。

电子制造领域：检测半导体芯片的焊接缺陷（如虚焊、焊球氧化）、PCB 板的线路腐蚀与断线，观测微型电子元件（如 MEMS 传感器）的结构完整性，助力电子产品质量控制。

（二）使用说明（以 “非导电陶瓷样品表面观测" 为例）

样品准备：将陶瓷样品切割为直径≤20mm、厚度≤5mm 的小块，用无尘布蘸取酒精清洁表面，去除粉尘与油污；若样品表面存在尖锐边缘，用砂纸轻微打磨，避免损坏样品台或影响观测角度。

设备启动与真空准备：打开 ZEM20Ultro 主机电源，启动配套操作软件，选择 “低真空模式"，设置真空度为 10Pa（根据样品绝缘程度调整）；点击 “抽真空" 按钮，设备自动完成预抽与主抽真空流程，待真空度达到设定值后（软件提示 “真空就绪"），进入下一步操作。

样品装载与定位：打开样品室门，将样品放置在样品台中心，通过样品台微调旋钮固定样品；关闭样品室门，在软件界面控制 X/Y 轴移动，将观测区域调整至视野中心，调节 Z 轴高度，使样品表面与电子束聚焦平面重合。

成像参数设置：选择 “二次电子成像" 模式，设置加速电压为 10kV（兼顾分辨率与样品损伤），电子束电流为 10pA，扫描速度为 “标准模式"（帧频 5fps）；点击 “自动聚焦" 与 “自动亮度 / 对比度"，软件自动优化成像参数，获取清晰的样品表面图像。

图像采集与保存：调整放大倍数（如先以 1000× 观测整体形貌，再以 50000× 观测细节），通过触控屏或鼠标拖动选择感兴趣区域；点击 “图像保存"，选择保存格式（BMP、TIFF 或 JPEG），设置文件名称与存储路径，完成图像采集；若需进行多区域观测，重复步骤 4-5，或设置 “自动扫描序列" 实现批量采集。

设备关闭：观测完成后，将放大倍数调至（20×），点击 “放气" 按钮，待样品室恢复大气压后，打开样品室门取出样品；关闭操作软件，依次关闭主机电源与真空系统电源，清洁样品台与设备表面，完成本次操作。

四、ZEM20Ultro 参数表

项目	规格参数
设备型号	ZEM20Ultro（台式场发射扫描电子显微镜）
成像模式	二次电子成像（SE）、背散射电子成像（BSE，可选配）
分辨率（二次电子）	1.5nm（30kV），10nm（1kV）
放大倍数	20×-1,000,000×
加速电压	0.1kV-30kV
电子束电流	1pA-100nA
真空系统	高真空模式：≤1×10⁻⁵Pa；低真空模式：1Pa-100Pa
样品台	X/Y/Z 三轴电动，行程 50mm×50mm×20mm，移动精度 1μm，最大承载 50g
样品兼容性	导电 / 非导电样品（低真空模式支持非导电样品）
操作界面	15.6 英寸高清触控屏，支持快捷键与手势操作
数据输出	USB3.0、HDMI，支持 BMP/TIFF/JPEG 格式图像保存，可导出原始数据用于后期分析
设备尺寸（长 × 宽 × 高）	约 850mm×650mm×1000mm
设备重量	约 120kg
电源要求	220V AC，50/60Hz，最大功率 1500W
工作环境	温度 20-28℃，相对湿度 30%-70%（无冷凝），无强磁场与振动干扰