技术文章

TECHNICAL ARTICLES

当前位置:首页技术文章

  • 20265-8
    白光干涉仪性能优势与选型要点

    一、随着精密制造、微纳加工、光学器件行业精度要求不断提升,传统接触式轮廓仪易划伤被测表面、测量效率低、无法满足微纳结构全域检测需求。白光干涉仪以非接触测量、高精度、快速成像、三维全域表征等特点,成为微观表面形貌、粗糙度、台阶高度、面形误差检测的主流设备,掌握其性能优势与选型逻辑,对合理配置检测设备至关重要。二、白光干涉仪基本工作原理白光属于宽光谱光源,相干长度短。白光干涉仪通过分光光路将光源分为参考光路与测量光路,被测表面反射光与标准镜面参考光发生干涉;仅在光程差接近零时产生...

  • 20264-26
    Sensofar三维共聚焦显微镜校准误差溯源与规避指南

    Sensofar三维共聚焦显微镜(如Sneox系列)的校准精度直接决定了其纳米级形貌数据的可靠性。误差来源并非单一因素,而是环境、硬件、标准器及操作流程共同作用的结果。只有系统性地识别并控制这些误差源,才能确保测量结果符合ISO25178等国际标准,满足科研与工业质控的严苛要求。一、环境稳定性误差:校准的“隐形杀手”1.误差机理:Sensofar三维共聚焦显微镜对温度波动与机械振动极度敏感。环境温度偏离20℃标准或存在瞬时波动时,会引起光学元件热胀冷缩,导致Z轴焦距漂移;外部...

  • 20264-24
    光学轮廓仪样品测试规范

    光学轮廓仪依靠高精度光学成像与干涉测量技术,完成工件表面粗糙度、微观形貌、台阶高度及三维轮廓检测。规范样品测试流程,可避免测量误差、保护仪器镜头,保证数据重复性与准确性。一、样品前期准备规范样品表面保持洁净,去除粉尘、油污、水渍、毛刺及加工碎屑,防止杂质遮挡测量区域、划伤光学镜头。软质材料、易划伤工件需轻拿轻放,避免表面产生二次划痕、压痕,影响真实形貌数据。不规则样品提前做好支撑定位,保证放置平稳,无晃动、倾斜,杜绝受力变形。二、测试环境规范测试区域保持平稳,远离震动、气流、...

  • 20264-24
    传统测量VS Sensofar三维共聚焦白光干涉仪:微观世界的精准之争

    在微纳尺度下的表面形貌测量领域,一场关于“真实还原”与“无损高效”的技术迭代正在发生。传统接触式轮廓仪与以Sensofar为代表的现代三维共聚焦白光干涉仪,代表了两种截然不同的测量哲学。前者基于经典的机械接触原理,后者则依托光学物理与智能算法的融合。这场精准之争,实则是工业检测从“经验依赖”向“数据驱动”的必然跨越。一、原理对决:机械触觉与光学成像的本质差异1.传统测量:以“点”窥面的局限性传统接触式轮廓仪依赖金刚石探针在样品表面进行机械扫描。探针的垂直位移被转换为电信号,从...

  • 20264-19
    Sensofar三维共聚焦显微镜微纳世界的“全能测绘师”

    Sensofar三维共聚焦显微镜并非传统意义上的“看”的显微镜,而是一套集成了共聚焦、白光干涉、相移干涉及多焦面叠加技术的非接触式3D光学轮廓仪。它通过高精度的光学层切与三维重建,在微纳米尺度上实现了从“观察形貌”到“量化特征”的跨越,是半导体、精密制造及新材料研发中至关重要的微观尺度测量与质量控制工具。一、提供真三维的表面形貌“数字孪生”传统显微镜仅能提供二维图像,而Sensofar的核心作用在于重建样品表面的三维点云数据。利用共聚焦原理的针孔滤波技术,它有效抑制了焦外杂散...

  • 20264-16
    征服86度极限斜率!Sensofar白光干涉仪如何实现“一眼看穿”复杂形貌?

    在精密制造、半导体、gao端刀具等前沿领域,产品的性能往往隐藏在微观的几何轮廓之中。如何快速、精准地测量那些具有超高斜率、复杂三维形貌的样品,一直是工业检测中的一大技术挑战。今天,我们向您介绍一项突破性的测量方案——Sensofar白光干涉仪,及其创新的AI多焦面叠加技术,它将带领我们解锁高斜率测量的全新体验。传统测量的瓶颈:当“陡峭”成为难题无论是精密的切削刀具刃口、微透镜阵列,还是MEMS器件的复杂结构,它们通常拥有接近垂直的侧面或极大的表面倾角。传统的光学显微镜或接触式...

  • 20264-16
    泽攸科技原位TEM揭秘催化剂“长寿”秘诀,CO₂高效变乙烯!

    在实现“碳中和”的科技攻关中,如何将工业排放的二氧化碳(CO₂)高效、高选择性地转化为高价值化学品,是科学界和产业界共同追逐的圣杯。其中,电催化CO₂还原制乙烯(C₂H₄)技术尤为关键,而铜(Cu)基催化剂是gong认最有潜力的“转化能手”。然而,这个“能手”却有两个致命的“阿喀琉斯之踵”:在高电流密度下,乙烯的选择性难以维持,且催化剂自身稳定性极差,容易快速失活。这两个瓶颈严重制约了其工业化应用。近日,一项发表于《NatureCommunications》的研究带来dian...

  • 20264-10
    登上Nature子刊!泽攸科技原位TEM技术揭秘“逆风”原子迁移奇观

    在纳米电子器件的微观世界里,一个被信奉了半个世纪的理论近日被一项中国科学家主导的研究打破。这项发表在顶级期刊《自然·通讯》(NatureCommunications)上的工作,shou次在原子尺度上直接观测到金属原子“逆”着电流方向迁移的现象,dian覆了传统电迁移认知。而这项重大发现的关键支撑,正是源自泽攸科技(ZEPTOOLS)的原位透射电子显微镜(TEM)技术。亚10纳米芯片的“阿喀琉斯之踵”:电迁移的世纪难题随着芯片制程不断微缩,内部起连接作用的金属互连线宽度已进入“...

共 337 条记录,当前 1 / 43 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
服务热线:17701039158
公司地址:北京市房山区长阳镇
公司邮箱:qiufangying@bjygtech.com

扫码加微信

Copyright©2026 北京仪光科技有限公司 版权所有    备案号:京ICP备2021017793号-2    sitemap.xml

技术支持:化工仪器网    管理登陆

服务热线
17701039158

扫码加微信