一为什么EUV离不开EBL？很多人会疑惑：既然EUV已经能高效量产先进芯片，为什么还要投入精力研发电子束光刻？答案藏在两者的“分工”里。EUV追求的是“批量生产的经济性”，就像印刷厂的大型设备，能快速复制已有的设计；而EBL解决的是“从0到1的可行性”，如同作家的钢笔，负责创造全新的“故事”没有EBL，EUV的掩模版无从谈起——这种高精度的“模具”是芯片量产的基础，必须依靠电子束光刻的纳米级分辨率（可达2nm）来制作。更重要的是，在3nm以下制程研发、量子计算、二维材料等前沿...

在科技日新月异的今天，白光干涉共聚焦显微镜作为光学显微技术领域的一颗璀璨明珠，正以其特殊的成像原理和杰出的性能，推动着微观世界探索的新风潮。它不仅极大地提升了我们对材料表面形貌、薄膜厚度、粗糙度等微观特性的认知能力，还在半导体、生物医学、材料科学等多个领域展现出广泛的应用潜力。白光干涉共聚焦显微镜的核心优势在于其结合了白光干涉与共聚焦扫描两大技术。白光干涉技术利用光波的干涉原理，通过测量样品表面反射光与参考光之间的光程差，精确重构出样品表面的三维形貌。这种技术具有非接触、无损...

为什么微观观察是污染研究的“第一道门”？微橡胶颗粒的环境危害，与其微观形貌、表面特性、粒径分布密切相关：粗糙的表面更容易吸附重金属和有机污染物，细小的粒径则能穿透生物屏障进入细胞。但这些颗粒直径多在1-500微米之间，远超光学显微镜的分辨极限，传统检测手段难以捕捉关键细节。泽攸科技ZEM系列台式扫描电镜的出现，为研究者打开了微观观察的“快速通道”。无需复杂样品制备，即可实现纳米级分辨率成像，让微橡胶颗粒的真实面貌清晰呈现——这正是青岛科技大学等团队在TWP与LAP毒性对比研究...

在科研领域，显微镜就像科学家的“火眼金睛”，帮我们看清微观世界的奥秘。而电子源，就是这双眼睛的“光源”，其性能直接决定了观测的精度和效率。最近，由北京大学等团队联合研发的“光纤集成石墨烯超快电子源”登上了《NatureCommunications》，用创新设计打破了传统电子源的诸多限制，而泽攸科技的ZEM系列台式扫描电镜，更是为这项研究提供了关键助力传统电子源的“老大难”：效率低还“娇气”提到电子源，你可能会觉得陌生，但它却是真空电子技术的核心。无论是高精度的时间分辨成像，还...

在纳米材料研发、先进储能器件优化及半导体制造等领域，材料在服役环境中的动态行为研究至关重要。北京仪光凭借泽攸SEM/TEM原位分析系统，突破了传统静态表征的局限，为科学家提供了实时观测材料微观结构演变的“纳米级显微镜”，成为推动材料科学突破的关键工具。1.原位SEM：动态形变与失效机制的“现场直播”ZEM系列台式扫描电镜搭载的原位拉伸/压缩模块，可在真空或可控气氛环境中对金属、陶瓷、高分子材料进行纳米级精度的力学加载。例如，在锂离子电池隔膜研究中，通过原位SEM可实时观察隔膜...

在现代电子设备中，有一群“隐形功臣”——微型BUMPS。它们是集成电路里的核心连接器，负责实现堆叠管芯或中介层之间的电气和机械连接，手机、平板、电脑等设备能高效运转，可离不开它们的功劳。01高精度测量，全面分析使用50倍干涉镜头，Sneox能对微型BUMPS进行三维轮廓测量，在高分辨率下全面分析，验证其高度、直径和平整度，有效防止粘合失败并优化电气性能。更厉害的是，仅需3秒就能分析所有测量数据，大大提高了效率。02性能，优势尽显速度惊人：采用新的智能算法以及新型相机，数据采集...

在传统测量领域，复杂工件的检测往往面临效率低、操作繁琐、动态呈现不足等痛点。而SensoFIVE的出现，正以其特别的五轴动态实时呈现技术，为这一领域带来不一样性的变革。传统测量常受困于操作复杂、动态呈现不足，而SensoFIVE的出现打破了这一局面。，时长02:54它与Sneox五轴系统无缝协作，三维查看器能实时展现五轴运动细节，旋转角度、高度调整皆直观可见，让测量从抽象变具象。放置样本到平面托盘，3D查看器可快速还原其形状；借助旋转支架测量圆柱体时，实时反馈让操作更便捷，大...

一、Sensofar白光干涉共聚焦显微镜核心应用场景半导体制造与微电子检测晶圆表面形貌测量：精确检测晶圆表面粗糙度(Ra关键尺寸(CD)表征：利用共聚焦模式捕捉光刻胶结构的侧壁粗糙度(Sa封装缺陷检测：检测芯片与基板贴合平整度，发现空洞、翘曲等问题，保障电子封装电气性能。例如，在动力电池模组封装中，通过30片/分钟的高速检测识别0.2μm涂层不均缺陷，年节省探针刮伤导致的报废成本超280万元。精密零部件与模具制造表面粗糙度评估：测量发动机叶片、精密齿轮等高精度零部件的表面形貌...