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Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响

产品简介

Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响,Sensofar 表面轮廓仪 S neox的光学干涉技术Sensofar 白光干涉S neox仪高数值孔径物镜 的一大核心亮点。在其传感器头中,巧妙集成了干涉、共聚焦、Ai 多焦面叠加和膜厚测量等多种*测量技术。只需轻松点击一次,系统便能依据当前测量任务的具体需求,自动智能地切换到较为适配的优良技术。

产品型号:S neox
更新时间:2025-07-15
厂商性质:代理商
访问量:189
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Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响

一、干涉测量核心原理:光波干涉与形貌重建

S neox的干涉测量基于双光束干涉原理:光源发出的光被分束器分为两路,一路照射样品表面,另一路照射参考镜,反射后重新合并产生干涉条纹。样品表面的高度差异导致光程差变化,进而改变干涉条纹的相位与强度。通过分析条纹变化,系统可重建表面三维形貌810。

Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响

二、三类干涉模式的技术差异与应用场景

1. 白光干涉模式(Coherence Scanning Interferometry, CSI)

原理:采用宽带白光光源(低相干性),通过Z轴扫描捕捉干涉条纹包络峰值位置,确定表面高度10。

优势:

抗环境干扰:低相干性抑制杂散光,适用于车间振动环境(>100nm振动幅度仍稳定)8。

跨尺度测量:纵向分辨率保持1nm,适用于光滑至中等粗糙表面(Ra 0.01–10μm)410。

典型应用:汽车发动机缸体珩磨纹、增材制造金属件粗糙度分析7。

2. 相位移干涉(Phase-Shifting Interferometry, PSI)

原理:使用单色光(高相干性),通过八部位移法(8-step phase-shifting) 分步引入固定相位差(通常每步 

π/2),求解高度相位方程10。

算法步骤:

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1. 采集8幅干涉图(相位差递增π/4)

2. 计算各点相位:φ = arctan[(I₅-I₁)/(I₂-I₆)]  

3. 解相位包裹,还原真实高度h = (λ/4π) * φ

优势:

亚埃级分辨率:系统噪声<0.01 nm,适用于光学镜面、晶圆超光滑表面210。

大视场兼容性:2.5倍物镜下仍保持亚纳米分辨率,支持12英寸晶圆全场测量4。

3. 扩展相移干涉(EPSI)

创新融合:结合PSI高分辨率与CSI大扫描范围优势,实现0.1nm分辨率+百微米级深度扫描10。

应用场景:MEMS器件深槽结构、医用支架表面膜厚分布测量(1.5–100μm厚度范围)710。

干涉模式技术对比表

模式分辨率适用表面扫描深度抗振能力

PSI<0.01 nm超光滑(Ra<0.1nm)几微米低(需隔震台)

CSI1 nm光滑-中等粗糙数百微米

EPSI0.1 nm复杂形貌100 μm以上中高

Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响

三、Sensofar的干涉技术创新

参考镜动态调节环

10X/20X干涉物镜内置机械调节环,可微调参考镜位置,消除多波长光源的色散误差,提升全光谱测量精度10。

实时环境补偿算法(REC)

通过振动传感器与算法实时修正相位偏移,使CSI模式在普通车间环境(振动>100nm)下保持纳米级重复性,无需光学隔震平台89。

三波长干涉协同

红/绿/蓝三色LED分时照明,同步获取形貌、膜厚、折射率分布及真彩色光学特征,单次扫描实现多物理场分析59。

Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响

四、工业场景实证

半导体晶圆缺陷检测

挑战:5nm线宽光刻胶侧壁缺陷(0.15μm残留)需非接触检测。

方案:PSI模式+150倍物镜,识别侧壁粗糙度(Sa<0.8nm),较SEM效率提升5倍9。

医用植入物抛光工艺优化

挑战:CoCr股骨组件电解抛光后表面粗糙度量化。

方案:CSI模式测量DLyte工艺前后表面,Sa参数从0.12μm降至0.05μm,同步验证形状公差保留(多焦面叠加技术)7。

航空航天叶片涂层分析

挑战:钛合金叶片86°倾角区域膜厚分布检测。

方案:EPSI模式+Ai景深融合,42秒完成15×15mm区域扫描,厚度分辨率0.1μm69。

Sensofar白光干涉:不受反光材料的影响

五、操作与精度保障策略

校准溯源:出厂前经ISO 25178标准样块校准,附带计量证书9。

智能软件链:

SensoSCAN:自动推荐物镜/干涉模式组合(如检测镜面PSI)5。

SensoPRO:支持ISO 25178参数(Sa/Sq)自动计算及容差报告37。

环境适应性:LED光源寿命50,000小时(激光光源的6倍),避免散斑噪声48。

结语:干涉测量的技术代际跨越

S neox的干涉体系以光波为尺、算法为眼,在PSI的亚埃级精度与CSI的工业鲁棒性间取得平衡。其八部位移法的相位解析精度、EPSI的跨尺度能力,以及REC环境补偿,共同构成纳米计量界的“干涉三角定律"。未来随着计算光学迭代,干涉技术将从“形貌复现"迈向“工艺预测",成为智能制造的微观决策中枢

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