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泽攸台阶仪
泽攸台阶仪:纳米级形貌测量的创新之选
泽攸台阶仪:纳米级形貌测量的创新之选在半导体制造、新材料研发与生物医疗领域,微观表面形貌的精准量化是推动技术迭代的核心要素。泽攸科技凭借多年技术沉淀,推出JS系列台阶仪,以模块化设计与自主创新技术,为科研与工业用户提供高适应性的形貌测量解决方案。
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泽攸台阶仪:纳米级形貌测量的创新之选
在半导体制造、新材料研发与生物医疗领域,微观表面形貌的精准量化是推动技术迭代的核心要素。泽攸科技凭借多年技术沉淀,推出JS系列台阶仪,以模块化设计与自主创新技术,为科研与工业用户提供高适应性的形貌测量解决方案。
JS系列涵盖JS100B、JS200B、JS300B及全自动型号JS2000B,适配不同场景需求:
型号对比:
型号 | 适用晶圆尺寸 | 最大测量范围 | 垂直分辨率 | 重复性偏差 | 采样速度 |
---|---|---|---|---|---|
JS100B | ≤150mm | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 200Hz |
JS200B | ≤200mm | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 200Hz |
JS300B | ≤300mm | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 200Hz |
JS2000B | 全自动 | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 动态优化 |
双LVDT传感器技术
泽攸台阶仪采用自主研发的直立式双LVDT传感器,突破传统杠杆式结构局限。传感器1实时监测探针压力(恒力范围0.5-50mg),传感器2反馈压电陶瓷位移,实现“所测即所得"的线性测量,避免圆弧补偿误差。在钙钛矿薄膜厚度测量中,该技术可将35-40nm超薄层的重复性偏差控制在0.5nm以内。
超平扫描台与动态调焦
配备纳米光栅反馈系统与超光滑平晶导轨,扫描平整度达20nm/2mm,支持55mm长距离扫描。JS2000B型号集成正视/侧视高像素相机,结合主动聚焦技术,可在扫描前快速定位样品测试点,避免离焦导致的边缘失真,尤其适用于柔性电子器件的曲面扫描。
多场景探针配置
提供标准探针(曲率半径>2μm)与亚微米探针(曲率半径<1μm)两种选择。在MEMS陀螺仪表面波纹测量中,亚微米探针可捕捉曲率半径≤1μm的微观结构,同时通过动态力控避免损伤样品。
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