在微型电子元件制造领域,如微型传感器、微型连接器、芯片封装元件等,其尺寸通常以微米为单位,表面质量与尺寸精度直接决定元件的电气性能与装配兼容性。哪怕是几微米的尺寸偏差或细微划痕,都可能导致元件无法正常工作或装配失效。Sensofar 新型共聚焦白光干涉光学轮廓仪 S neox,凭借纳米级的检测精度与适配微型元件的灵活特性,成为微型电子元件制造过程中质量控制的关键工具,为元件的研发验证、生产质检及失效分析提供可靠支持。
从微型电子元件的检测核心需求来看,引脚尺寸精度、封装胶体表面平整度、元件表面划痕与缺陷、微小孔径或槽宽的测量,是四大关键检测方向,且均需达到微米甚至亚微米级的检测精度。S neox 搭载的 3D 共聚焦白光干涉技术,恰好能满足这一严苛要求。其垂直分辨率达到纳米级别,水平分辨率也可精准至微米级,可清晰捕捉微型元件表面细微的结构特征。以微型连接器引脚检测为例,引脚的直径、高度及顶端圆角半径直接影响插拔性能与导电稳定性,通过 S neox 对引脚进行扫描,能获取完整的 3D 轮廓数据,精确测量各项尺寸参数,判断是否符合设计标准,避免因引脚尺寸偏差导致的接触不良问题。
在微型元件的缺陷检测方面,S neox 具备出色的细节捕捉能力。微型电子元件在制造过程中,可能因模具磨损、加工工艺波动产生表面划痕、凹陷、毛刺或封装胶体气泡等缺陷。以芯片封装胶体检测为例,封装胶体表面若存在凹陷或气泡,可能导致芯片散热不良或机械强度下降。通过 S neox 对封装胶体表面进行扫描,能精准识别凹陷的深度与面积、气泡的位置与大小,甚至可检测到胶体内部几微米大小的微小气泡。设备的重复性优异,对同一缺陷进行多次检测,数据偏差极小,为缺陷判定与工艺优化提供可靠依据。
S neox 的参数配置进一步贴合微型电子元件检测需求:检测技术为 3D 共聚焦白光干涉技术,保障纳米级检测精度;检测平台移动精度达微米级,满足微型元件的精准定位;软件中的 “边缘检测" 模块,可自动识别元件的轮廓边缘,减少人工测量的误差;“多区域批量检测" 功能,可预设多个检测区域,实现对同一元件不同部位的连续扫描,提升检测效率。此外,设备支持与电子设计自动化(EDA)软件对接,可直接导入元件的设计图纸数据,将实际检测结果与设计值进行自动对比,快速生成偏差报告,为生产工艺调整提供直观依据。
随着微型电子元件向更小尺寸、更高集成度方向发展(如 MEMS 微机电系统、微型射频元件),对检测设备的精度与适配性要求不断提升。Sensofar S neox 共聚焦白光干涉光学轮廓仪,以精准的检测能力、灵活的适配性与稳定的性能,为微型电子元件制造企业提供从研发到生产的全流程质量保障,帮助企业提升产品合格率,降低失效风险,在微型电子领域的竞争中占据优势。