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泽攸ZEM20扫描显微镜核心用材与工艺

产品简介

泽攸ZEM20扫描显微镜核心用材与工艺
台式扫描电子显微镜的长期性能稳定,依赖于定期维护。ZEM20的维护重点集中在真空系统、探测器及环境控制

产品型号:
更新时间:2025-10-13
厂商性质:代理商
访问量:21
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泽攸ZEM20扫描显微镜核心用材与工艺

泽攸 ZEM20 以紧凑结构、可靠真空系统、灵活的自动化功能以及完善的维护体系,能够满足材料科学、能源、生命科学等多领域的微观表征需求。通过上述六篇技术文章,您可以快速了解其硬件构成、成像性能、材料工艺、操作要点、环境适配以及典型应用场景,为实验室选型与日常使用提供系统参考。

  • 真空腔:6061‑T6 铝合金经硬质阳极氧化(厚度 35 µm),显微硬度 380 HV,放气率 4.5 × 10⁻⁷ Pa·L·s⁻¹·cm⁻²。

  • 磁屏蔽筒:1J79 坡莫合金,壁厚 2 mm,μr > 40 000,磁场抑制至 < 3 nT,像散畸变 < 0.2 %。

  • 电缆:50 kV 级硅胶绝缘线,外覆不锈钢网屏蔽,弯曲半径 ≥ 40 mm,耐 10⁴ 次弯曲。

  • 信号线:PTFE 隔离 Litz 线,40 kHz 扫描时交流电阻下降 18 %。

  • 密封件:Viton A O‑ring,放气率 1 × 10⁻⁶ Pa·L·s⁻¹·cm⁻²,寿命 ≥ 2 年。

材料参数概览

组件材料表面处理放气率 (Pa·L·s⁻¹·cm⁻²)
真空腔6061‑T6 铝硬质阳极氧化4.5 × 10⁻⁷
镜筒SUS304 不锈钢电抛光2 × 10⁻⁷
屏蔽筒1J79 坡莫合金钝化1 × 10⁻⁷
密封圈Viton A1 × 10⁻⁶

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