在现代科技飞速发展的今天，精密测量仪器的设计不仅要满足高精度的测量需求，更要注重美观与集成的便捷性。三维共聚焦白光干涉仪测量头，以其杰出的性能和特殊的设计，成为了市面上最漂亮的可集成区域共聚焦传感器之一。这款测量头的设计充分体现了现代工业设计的精髓。其外观简洁流畅，线条优美，无论是从哪个角度看，都透露出一种精致的美感。同时，它的体积小巧，结构紧凑，这使得它在集成到各种测量系统中时，能够轻松融入，不会占用过多空间，也不会干扰到其他设备的正常运行。更重要的是，这款三维共聚焦白光干...

在当今的材料科学与纳米技术领域，原位分析技术已经成为科学家们探索微观世界至关重要的工具。其中，泽攸科技推出的SEM（扫描电子显微镜）和TEM（透射电子显微镜）原位分析系统，以其杰出的性能和广泛的应用领域，赢得了国内外科研人员的广泛赞誉。SEM原位分析系统通过电子束扫描样品表面，利用二次电子、背散射电子等信号成像，能够直观展示样品的表面形貌和化学成分分布。这一技术不仅分辨率高，而且景深大，使得样品表面的微小细节得以清晰呈现。更重要的是，泽攸SEM原位分析系统还配备了原位拉伸、加...

Sensofar共聚焦白光干涉仪是一种高性能的3D光学轮廓测量仪器，其结合了共聚焦、干涉测量等多种先进技术，实现了对物体表面形貌的高精度测量。以下是对其测量原理与技术的详细解析：一、测量原理干涉测量原理干涉技术的基本原理是将光分成光学传播路径不同的两个光束，然后再合并，从而产生干涉现象。在干涉物镜的作用下，显微镜可以作为干涉仪工作。当焦点对准后，可在样本上观察到干涉条纹。这些条纹的强度和相位信息反映了样本表面的高度信息。共聚焦测量原理共聚焦技术通过多个光源和探测器组合，实现对...

随着半导体技术的不断发展，芯片尺寸的逐渐缩小以及制造工艺的精细化，使得对材料和器件表面精度的要求越来越高。在半导体行业，尤其是在集成电路(IC)和光刻工艺中，表面平整度（平面度）的测量变得尤为重要。传统的平面度测量方法往往难以满足现代半导体制造的高精度需求，而白光干涉仪因其非接触、高分辨率、全局性测量特性，成为半导体行业中的一种重要工具，广泛应用于半导体制造中的平面度检测。一、白光干涉仪原理概述本仪器基于干涉原理，利用白光源的宽光谱特性，通过测量反射光与参考光之间的干涉条纹来...

观察–分析–辨别在微电子学和微电子机械系统工业中，您需要观察、分析和辨别产品的特性。过程控制和失效分析中同样需要使用显微镜。设备物理结构的知识对了解过程至关重要。微电子产品的开发和微电子机械系统（MEMS）的设计依赖于高效的显微镜。运用不同的光学显微技术，可以检测产品的不同特征，如裂纹、孔洞或结点。在小型机械设备制造中，光学显微镜常常被用来评估模型及用于监测精密机械加工结果。质量控制–需要合适的工具三维成像技术能为很多质量控制方面的检测提供便利。共焦扫描显微镜可检测诸如焊接点...

坚固耐用的常规仪器和先进的研究工具在机械工程和多种机械设备及配件的生产制造中会经常使用光学和电子显微镜。它们需要坚固耐用的常规标准化测量仪器和先进精密的研究工具。在新材料研发、表面处理、焊接点和紧固件的过程控制，以及质量控制与失效分析等领域中，您可以使用光学显微镜进行检测分析。结构检验钢结构部件断裂的根源往往是因为微观结构的瑕疵，而断裂结构以及微观瑕疵都能在光学显微镜下进行观察辨别。诸如螺母和螺栓等紧固件的完整性对器具装置的结构安全而言是相当重要的。通常而言，检验通过重点关注...

化学工业和制造业在化工业和塑料产品制造业中，无论您是进行高分子原材料的生产，还是进行工业和最终消费产品的生产，光学和电子显微镜都发挥着重要的作用。塑料零部件和结构化组件在航空航天、汽车、建筑等行业乃至医疗设备中均起到重要的作用。结晶晶体形貌不仅影响了高分子材料的所有机械性能，也影响其生物降解性和生物兼容性。为了成功地控制聚合物的微观结构并达到预期特性，您需要对高分子材料结晶过程有一个很好的理解。正置式显微镜和偏光显微镜不仅能够用于检测成品，也能用于检测晶体在原位的生长（通常与...

颜色–偏光显微研究光学显微镜和电子显微镜是矿相学和矿物表征的*备工具。典型的应用是对矿物的纹理和解离进行定性、定量分析及测定。大部分岩石和矿物样品含有光学各向异性材料。颜色是在显微镜下鉴定矿物的最重要属性之一。因此，偏光显微镜对矿物样品的鉴定与研究具有十分重要的作用。偏光显微镜能够分析晶粒大小和形状、结晶度和岩石矿物形貌，帮助识别各类岩石矿物。检测更多的特性偏光显微镜在矿物表征中的广泛应用包括分析多色性、折射率和整体表面形貌，以及孪晶、杂质和解理等。岩石形成的条件，如温度、压...