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技术文章
TECHNICAL ARTICLES膀胱癌是全球常见的恶性肿瘤之一,其中绝大多数初诊患者属于非肌层浸润性膀胱癌(NMIBC)。目前,经尿道切除术后辅以卡介苗(BCG)膀胱内灌注免疫治疗是中高风险NMIBC患者的“金标准”方案。BCG通过激活局部免疫反应,诱导细胞毒性T淋巴细胞清除肿瘤细胞,有效降低复发与进展风险。然而,传统BCG疗法存在一个显著缺陷:灌注的BCG会随着患者排尿在短时间内(约2小时)被迅速清除,无法在膀胱内维持足够长的作用时间,从而严重限制了其免疫激活效果和最终疗效。现有的延长滞留策略,如粘附性水...
徕卡显微镜作为精密光学仪器,其成像质量和使用寿命高度依赖于日常的光学系统保养。规范的保养不仅能确保图像始终清晰锐利,更能保护昂贵的光学部件免受不可逆的损伤。以下是徕卡显微镜光学保养的核心要点与科学流程。一、保养原则:预防为主,科学清洁光学保养的核心在于“防大于治”。绝大多数污染和划痕源于不当操作。因此,养成良好的使用习惯是首要任务:使用后立即盖上防尘罩,避免用手直接触摸光学玻璃表面,环境应保持清洁、干燥、无震动。当清洁无法避免时,必须遵循“先吹后擦,由内而外”的科学流程。严禁...
白光干涉仪是一种基于宽带光源的精密测量仪器,其核心原理在于利用低相干光的干涉特性,实现对样品表面形貌或薄膜厚度的高精度、非接触测量。与单色光干涉不同,白光干涉因其宽光谱特性,使得干涉现象仅在光程差极小范围内发生,这一特性被广泛应用于微观形貌检测、光学薄膜表征及微结构分析等领域。其关键技术正是基于光谱干涉模式的生成与解析。一、光谱干涉的物理基础当一束白光(宽带光源)通过分束镜分为两束,一束射向参考镜,另一束射向待测样品后,两束光重新汇合并发生干涉。由于白光相干长度极短(通常仅为...
在微纳加工领域,1μm及以下线宽电极的制备一直是科研工作者面临的重大挑战。传统光刻技术受限于匀胶工艺、光学衍射极限等因素,难以实现高精度图形化。今天,我们将揭秘如何利用泽攸科技DMD无掩膜光刻机突破这一技术瓶颈!三大关键技术突破1.精密匀胶控制•采用AR-P-5350光刻胶,严格控制胶层厚度在1μm•"低速-高速"两步旋涂法,确保胶膜均匀性•精确控制前烘温度和时间,提升胶膜附着力2.智能曝光系统•通过QCAD/Klayout软件实现图形原位设计•智能剂量优化算法自动匹配最佳曝...
在微纳制造和精密测量领域,高深宽比结构的精确测量一直是技术难点。本文将深入探讨数值孔径(NA)与深宽比的关系,以及如何选择合适的光学系统来解决这一难题。数值孔径(NA)与深宽比的关系数值孔径(NA)是决定光学系统分辨率的关键参数,它直接影响物镜的消位置色差能力和测量性能。从图中可见:•NA越大:通光量越大,进光量减少,适合测量角度信息,具有更好的水平分辨率•NA越小:通光量越小,进光量增加,更适合测量宽深比较大的样品应用案例一:深孔结构测量在深孔测量中,结构光路受限导致光强衰...
西班牙Sensofar三维共聚焦白光干涉仪(以旗舰型Sneox为例)的优点集中体现在多技术融合、无运动部件设计、超高速扫描、全尺度表面覆盖、真彩色成像五大核心领域,以下为具体分析:多技术融合:一机覆盖全场景需求Sneox创新性地将共聚焦显微技术、白光干涉技术、相位差干涉技术和多焦面叠加技术集成于同一测量头。用户无需更换硬件或插拔模块,仅通过软件即可自动切换测量模式:共聚焦模式:以0.10μm横向分辨率实现临界尺寸测量,150倍物镜下可测70°光滑表面斜率(粗糙表面达86°);...
在航空航天、电子器件等领域,Cu-Ni-Sn合金凭借高强度、抗腐蚀、安全无毒等优势,成为关键部件的“优选材料”——比如高功率密度柴油机的连杆衬套,就依赖其优异性能保障运行。但长期以来,传统铸造工艺始终受困于“枝晶偏析”难题,严重制约合金性能提升。近日,中北大学研究团队借助泽攸科技ZEM18台式扫描电镜,开展放电等离子烧结(SPS)制备Cu-6Ni-6Sn合金的系统研究,不仅成功破解偏析困境,更验证了短流程制备技术的可行性。今天,我们就来拆解这项研究的核心突破,以及ZEM18如...
一、EUV掩模:芯片制造的“光学模板”与传统透射式光掩模不同,EUV掩模采用反射式设计(因EUV光易被材料吸收)。其表面吸收层的高度变化需精确控制,才能实现13.5nm极紫外光的精准反射与衍射。关键挑战:•吸收层台阶高度误差需•多层膜表面粗糙度要求二、Sneox测量系统:亚纳米精度的三大突破1.白光干涉技术通过分析反射光干涉条纹的相位变化,实现三维形貌纳米级重建,可精准捕捉吸收层微结构:2.0.01nm纵向分辨率相当于1个硅原子直径的1/20,能检测到肉眼不可见的膜层凸起或凹...