在材料研发、微电子制造、航空航天零部件检测等对微观观察精度与分析能力要求严苛的领域，台式扫描电子显微镜 ZEM20 凭借顶尖的光学配置、全面的分析功能与稳定的运行表现，成为专业用户探索微观世界的可靠伙伴，为高难度检测任务提供有力支持。
一、产品细节：配置兼顾稳定性与易用性
ZEM20 在保持台式设计便捷性的同时，对机身结构进行了全面升级。整体尺寸为 720mm×550mm×850mm，重量约 110kg，机身框架采用高强度铝合金材质，经过整体压铸成型工艺处理，结构强度大幅提升，能有效抵御外界震动对电子光学系统的影响，即使在工业车间多设备同时运行的环境中，也能保持稳定的成像精度。
机身外壳选用阻燃 ABS 工程塑料，表面覆盖防刮耐磨涂层，不仅具备良好的抗冲击性与耐腐蚀性，还能防止日常使用中的划痕损伤，长期保持设备外观整洁。设备底部配备可调节减震脚垫，通过旋转脚垫可调整机身水平度，同时减少地面震动传递，进一步提升设备运行稳定性。
样品室作为核心部件，采用 316 不锈钢材质打造，厚度达 3mm，相较于 304 不锈钢，316 不锈钢具有更强的耐酸碱腐蚀能力，适合检测含有腐蚀性成分的样品（如化工材料、海洋环境下的金属部件）。样品室内部空间进一步扩大，最大可容纳直径 100mm、高度 80mm 的样品，能适配大型工业零件（如航空航天领域的小型涡轮叶片、汽车发动机的精密齿轮）与块状地质样品，满足多样化检测需求。
样品台升级为全自动电动控制，支持 X 轴 ±40mm、Y 轴 ±40mm、Z 轴 80mm 的移动范围，同时具备 360° 旋转功能与 ±90° 倾斜功能，可从任意角度观察样品表面形貌。样品台移动精度达 ±0.001mm，通过操作软件即可实现精准定位，无需手动调节，大幅减少人为操作误差。
操作界面采用 10 英寸高清触控屏，分辨率达 1920×1080，显示效果清晰细腻，支持多点触控与手势操作，如双指缩放图像、滑动调整参数等，操作体验媲美智能设备。屏幕内置环境光传感器，能根据周围光线强度自动调整亮度与对比度，确保在不同光照环境下都能清晰查看图像细节。此外，设备配备专用操作软件，支持电脑远程控制，操作人员可在电脑上完成参数设置、图像采集、数据分析等全部操作，软件界面简洁直观，功能分类清晰，新手也能快速掌握。
二、产品性能：顶尖配置实现高精度观察与分析
ZEM20 的电子光学系统采用场发射电子枪，相较于 ZEM15 的钨灯丝与 ZEM18 的 LaB₆灯丝，场发射电子有更高的亮度、更细的电子束直径与更长的使用寿命，能实现更高分辨率的成像效果。加速电压范围扩展至 0.1kV～20kV，低电压段（0.1kV～5kV）的性能大幅优化，对超敏感样品（如纳米材料、生物活体细胞冷冻样品）观察时，能最大限度减少电子束对样品的损伤，同时避免充电现象，确保图像真实还原样品形貌；高电压段（5kV～20kV）则能穿透样品表面的复杂结构，清晰呈现内部微观组织，适合金属材料的内部缺陷检测与多层结构分析。
分辨率方面，ZEM20 在 30kV 加速电压下可达 1.0nm，1kV 低电压下可达 3.0nm，处于台式扫描电子显微镜的水平。例如在观察纳米级半导体器件时，能清晰分辨尺寸仅几纳米的晶体管结构；观察生物纳米材料（如纳米纤维、纳米颗粒）时，可精准呈现其形态与分布情况；观察金属材料的疲劳裂纹时，能捕捉到裂纹的细微结构，为材料失效分析提供关键依据。
扫描速度覆盖超慢扫、慢扫、中扫、快扫、超快扫五档模式，超慢扫模式适合获取超高清晰度图像，用于发表高水平科研论文或制作精密检测报告；超快扫模式则能实现样品的快速筛查，扫描速度比 ZEM18 提升 30%，适合工业生产中的批量样品检测，大幅提高检测效率。
探测器配置上，ZEM20 标配二次电子探测器、背散射电子探测器与高灵敏度能量色散 X 射线谱仪（EDS），同时可选配电子背散射衍射仪（EBSD）。二次电子探测器能清晰呈现样品表面形貌细节；背散射电子探测器可根据样品元素原子序数差异生成衬度图像，区分不同成分区域；EDS 谱仪能快速检测样品表面的元素组成与含量，分析精度达 ppm 级别，支持多元素同时分析与元素分布 Mapping 成像；EBSD 则可分析样品的晶体结构、晶粒取向与织构，为材料力学性能研究提供重要数据。
三、用材与参数：核心部件保障顶尖性能
关键部件用材上，ZEM20 的电子透镜采用高纯度无氧铜材质，经过精密车削与抛光处理，表面粗糙度控制在 Ra0.01μm 以内，能有效减少电子束在传输过程中的能量损失与散射，提升电子束聚焦精度。样品台的导轨采用陶瓷材质，陶瓷导轨具有出色的耐磨性、抗腐蚀性与稳定性，长期使用后仍能保持的移动精度，避免因导轨磨损影响检测结果。
真空系统采用机械泵 + 分子泵 + 离子泵的三级真空配置，能快速将样品室真空度提升至 10⁻⁷Pa 以下，抽真空时间仅需 3～5 分钟，大幅缩短设备启动时间。同时，真空系统具备自动检漏与补气功能，若检测到真空度下降，会自动启动补气程序，确保设备始终处于稳定的真空环境中，保障成像质量与检测精度。
以下为 ZEM20 的核心参数表：
四、用途与使用说明：覆盖科研与工业检测
ZEM20 的用途广泛且专业，在材料研发领域，可用于纳米材料（如碳纳米管、石墨烯）的形貌观察与尺寸测量，分析材料的微观结构与性能关联；在微电子制造领域，能检测 7nm 及以下制程芯片的电路结构、缺陷与污染物，确保芯片制造精度；在航空航天领域，可对航空发动机叶片、航天器零部件的表面涂层厚度、微观缺陷进行检测，保障零部件的可靠性与安全性；在生物医学领域，对冷冻电镜样品、生物纳米载体进行高分辨率观察，助力精准医疗研究；在地质勘探领域，分析岩石矿物的微观结构、元素组成与晶体取向，辅助判断矿产资源分布与地质演化过程。
使用 ZEM20 时，流程如下：首先接通电源，打开设备总开关与电脑操作软件，软件会自动检测设备状态，若一切正常，真空系统将启动，三级真空配置能快速达到所需真空度，可通过软件实时查看真空度变化；待真空度达标后，点击软件中的 “样品室控制" 按钮，自动打开样品室门，将预处理后的样品固定在样品台上（导电性差的样品可使用设备自带的低真空模式，无需喷金处理），关闭样品室门，等待真空度再次恢复；然后在软件中选择成像模式（如二次电子成像），设置加速电压、放大倍率与扫描速度，通过软件控制样品台移动与倾斜，将待观察区域移至电子束扫描中心，调整焦距至图像清晰；最后点击 “图像采集" 按钮，设备生成图像后，可在软件中进行亮度、对比度调节与图像裁剪，同时可启动 EDS 或 EBSD 分析功能，获取元素或晶体结构数据，所有数据可保存为多种格式（如 JPEG、TIFF、CSV），方便后续分析与报告制作。
使用过程中需注意，检测含有挥发性或放射性成分的样品时，需提前告知设备供应商，进行专用样品室改造；设备需定期维护，每半年更换一次机械泵油，每年进行一次真空系统检漏与电子光学系统校准，确保设备长期稳定运行。
五、型号特点：适配检测需求
作为 ZEM 系列的型号，ZEM20 在性能、配置与功能上均达到行业水平，适合对检测精度与分析能力要求的科研机构（如实验室、重点高校科研团队）、制造企业（如微电子芯片厂、航空航天零部件制造商）与第三方检测机构。其全自动样品台、三级真空系统与全面的分析功能，能满足复杂场景下的高难度检测任务，为用户提供精准、全面的微观分析数据，助力推动科研创新与制造业发展。
无论是探索纳米尺度的微观世界，还是保障产品的制造精度，ZEM20 都能凭借顶尖的性能与稳定的表现，成为专业用户的得力助手，为高精度检测领域树立新的。
ZEM20 台式电镜：高精度检测
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