探秘泽攸ZEM20扫描显微镜材料与制造工艺

探秘泽攸ZEM20扫描显微镜材料与制造工艺

ZEM20在材料选择和制造工艺上体现了精密仪器的特点。主体结构采用铝合金框架配合不锈钢面板，既保证了结构稳定性，又控制了整体重量。电子光学镜筒采用无磁不锈钢材料，经过特殊热处理工艺消除内应力，确保在温度变化环境下保持尺寸稳定。

电子枪组件采用特殊的陶瓷金属封接工艺，具有良好的真空密封性和热稳定性。电磁透镜线圈使用高纯度无氧铜导线，层间绝缘采用聚酰亚胺薄膜，确保了磁场生成的准确性和稳定性。光阑机构采用钼片制造，具有三个不同尺寸的孔洞，通过软件控制自动切换。

样品室内部构件多数采用不锈钢材料，表面经过电解抛光处理，减少出气率并改善真空性能。样品台传动系统采用精密滚珠丝杠配合步进电机，定位精度达到1微米级别。所有真空密封圈均采用氟橡胶材料，具有良好的真空性能和较长的使用寿命。

ZEM20的性能参数包括成像、真空与操作等方面。在成像性能上，其二次电子与背散射电子图像分辨率均达到4nm，放大倍数范围为数十倍至36万倍。加速电压最大支持20kV，并可选择高真空或低真空模式（低真空为选配）。电子枪类型为预对中钨灯丝，寿命较长。样品台标准配置为三轴，可选五轴，移动范围灵活。真空系统采用独特分隔设计，抽真空时间短，换样后准备迅速。探测器类型涵盖SE（二次电子）与BSE（背散射电子）。设备还支持图像多格式保存（如TIFF、JPEG），分辨率最高可达7680×4800像素。这些参数保证了ZEM20在微观形貌观察中的表现。探秘泽攸ZEM20扫描显微镜材料与制造工艺